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公开(公告)号:CN112415784A
公开(公告)日:2021-02-26
申请号:CN202011414339.8
申请日:2020-12-04
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明提供一种非易失性光开关及其制作方法,所述非易失性光开关包括:绝缘埋层;单模波导,位于所述绝缘埋层之上;相变材料微盘,位于所述单模波导之上;以及上包层,覆盖所述相变材料微盘和所述单模波导。相对于现有的硅基光开关,本发明的非易失性光开关具有更小的器件尺寸、消光比大且插入损耗低。
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公开(公告)号:CN112736158A
公开(公告)日:2021-04-30
申请号:CN202011552811.4
申请日:2020-12-24
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L31/108 , H01L31/0352 , H01L31/18
Abstract: 本发明涉及一种高性能硅基锗探测器及其制备方法,由下至上包括作为探测器制作初始材料包括硅材料(1)、SiO2层(2)和锗层(3)的衬底、作为肖特基接触的金属电极(4)和覆盖于锗层(3)和金属电极(4)上的石墨烯薄膜(5)。本发明通过光子晶体结构设计,使~200nm的超薄锗层结构在1310nm入射光处实现了超高吸收,量子效率不受限于吸收层的厚度;制作工艺无需掺杂,大大简化了工艺成本及制造成本,具有良好的市场应用前景。
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