一种高性能硅基锗探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112736158A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202011552811.4

    申请日:2020-12-24

    Abstract: 本发明涉及一种高性能硅基锗探测器及其制备方法,由下至上包括作为探测器制作初始材料包括硅材料(1)、SiO2层(2)和锗层(3)的衬底、作为肖特基接触的金属电极(4)和覆盖于锗层(3)和金属电极(4)上的石墨烯薄膜(5)。本发明通过光子晶体结构设计,使~200nm的超薄锗层结构在1310nm入射光处实现了超高吸收,量子效率不受限于吸收层的厚度;制作工艺无需掺杂,大大简化了工艺成本及制造成本,具有良好的市场应用前景。

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