-
公开(公告)号：CN108549197A
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201810214561.X
申请日：2018-03-15
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光通量进行监测，从而根据杂散光的光强变化实时调整各个光刻区域的曝光时间，由此对曝光剂量进行补偿，以使曝光剂量在XIL大面积曝光图形拼接过程中保持不变，从而确保最终获得的大面积曝光图形内的纳米结构均匀，进而有效提高这种曝光图形形成的器件性能。
-
公开(公告)号：CN102621910A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210111385.X
申请日：2012-04-16
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G05B19/04
Abstract: 本发明涉及一种基于EPICS的四刀狭缝控制系统及其控制方法，其中，所述系统包括上位机；以及连接在所述上位机和第一至第四狭缝电机之间的IOC控制器，其一方面根据所述上位机提供的所述四刀狭缝的口径值和/或口径中心点位置信息以及预设的第一至第四刀片位置与四刀狭缝的孔径以及口径中心点位置的关系模型，计算得到第一至第四刀片的目标位置信息，并根据该第一至第四刀片目标位置信息向所述第一至第四狭缝电机输出相应的控制信号。本发明在基于实现对狭缝电机的独立驱动的基础上，实现狭缝电机的联动控制，从而调节狭缝口径的大小以及实现口径中心点位置的偏移控制，进而实现了对束流光斑形状的调节，满足了科学实验的物理需求。
-
公开(公告)号：CN102621909A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210098300.9
申请日：2012-04-06
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种压弯机构运动控制系统，包括：上位机；与外围控制所述压弯机构的多台带有驱动器的电机连接的运动控制卡；以及通过VME总线与所述运动控制卡连接、并通过网络与所述上位机连接的中央处理器。本发明通过采用基于VME总线的运动控制卡和基于网络通信的中央处理器，实现了控制系统的高稳定性和可靠性；并且通过在中央处理器中建立电机记录、传递记录以及虚拟机记录，实现了各记录间的灵活数据链接配置，从而实现了对压弯机构的运动被控量及电机位置的高效控制，进而使压弯机构实现复杂的运动。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102590582A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210022016.3
申请日：2012-01-31
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种光电流数据获取系统，它包括串口服务器；与所述串口服务器连接、采集外围光电流数据的皮安表；以及通过网络与所述串口服务器连接的输入输出控制器，其控制所述皮安表运行，以实时获取光电流数据。本发明利用串口服务器将皮安表接入以太网，并通过输入输出控制器控制皮安表的运行，以实现光电流数据的实时获取；这种结构使得皮安表对于输入输出控制器来说，仅为一个网络设备，因此，它们之间是网络通信方式，不再受通信距离的限制；而且对于上层的操作员接口层来说，也可以通过以太网实现与皮安表以及输入输出控制器的网络通信，从而保持了上层操作的一致性。
-
公开(公告)号：CN102436250A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201210022017.8
申请日：2012-01-31
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 本发明涉及一种远程监控系统，用于监控束线控制系统中多条光束线站的设备的运行状态，所述远程监控系统包括：至少一台中央监控终端；以及多个一一对应地与所述每条光束线站的设备连接以监控所述设备的运行状态的监控子系统，且所述每个监控子系统分别通过一独立控制子网与所述中央监控终端连接。本发明具有以下优点：系统结构清晰，便于开发和维护；负载均衡，可扩展性强，在网络条件许可的情况下满足任意多线站的监控要求；独立性强，可靠性高，各监控子系统之间以及各监控模块之间互不干扰，在局部维护时对整个系统影响很小；灵活性高，可移植性强，略作修改便可将监控模块移植到其他线站。
-
公开(公告)号：CN108549197B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201810214561.X
申请日：2018-03-15
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光通量进行监测，从而根据杂散光的光强变化实时调整各个光刻区域的曝光时间，由此对曝光剂量进行补偿，以使曝光剂量在XIL大面积曝光图形拼接过程中保持不变，从而确保最终获得的大面积曝光图形内的纳米结构均匀，进而有效提高这种曝光图形形成的器件性能。
-
公开(公告)号：CN102681516B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201210163250.8
申请日：2012-05-22
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 本发明提供一种实现单色器与谱学显微镜通信的接口系统和方法。所述单色器包括单色器控制模块，所述谱学显微镜包括谱学显微镜控制模块，其中所述接口系统包括依次连接在所述谱学显微镜控制模块与所述单色器控制模块之间的服务器模块和接口工具模块。所述服务器模块一方面接收所述谱学显微镜控制模块发送的控制信息，并通过所述接口工具模块将所述控制信息传送至所述单色器控制模块；另一方面通过所述接口工具模块接收所述单色器控制模块发送的反馈信息，并将所述反馈信息传送至所述谱学显微镜控制模块。从而，实现谱学显微镜控制模块与单色器控制模块之间的数据交互。
-
公开(公告)号：CN102681516A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210163250.8
申请日：2012-05-22
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 本发明提供一种实现单色器与谱学显微镜通信的接口系统和方法。所述单色器包括单色器控制模块，所述谱学显微镜包括谱学显微镜控制模块，其中所述接口系统包括依次连接在所述谱学显微镜控制模块与所述单色器控制模块之间的服务器模块和接口工具模块。所述服务器模块一方面接收所述谱学显微镜控制模块发送的控制信息，并通过所述接口工具模块将所述控制信息传送至所述单色器控制模块；另一方面通过所述接口工具模块接收所述单色器控制模块发送的反馈信息，并将所述反馈信息传送至所述谱学显微镜控制模块。从而，实现谱学显微镜控制模块与单色器控制模块之间的数据交互。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.057 seconds)
