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公开(公告)号：CN117305843A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311065679.8
申请日：2023-08-23
Applicant: 中国矿业大学(北京)
IPC: C23F3/04
Abstract: 本发明公开了一种用于Co互连粗抛阶段的化学机械抛光液及其化学机械抛光方法，所述化学机械抛光液包括0.1‑5wt.％的氧化剂、0.1‑5wt.％的络合剂、0.005‑5wt.％的缓蚀剂、0.01‑0.5wt.％的pH调节剂、0.1‑5wt.％的磨料和余量的水，所述缓蚀剂为2,2’‑[[(甲基‑1H‑苯并三唑‑1‑基)甲基]亚氨基]双乙醇、油酸钾或十二烷基苯磺酸。本发明的化学机械抛光液，可以用于Co互连粗抛阶段的化学机械抛光，通过提高化学反应和机械磨损的协同作用，化学机械抛光液在Co抛光过程中能够获得较高的材料去除速率、较低的静态腐蚀速率、较低的表面粗糙度以及均匀的腐蚀后表面形貌，在Co互连结构的CMP工艺中具有广阔的应用前景。
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