一种二值化X光选能器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN109637691B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201811529651.4

    申请日:2018-12-13

    Abstract: 一种二值化X光选能器件,涉及X光选能领域,其由对X光的透过呈二值化分布的光学单元周期堆砌而成,具体为柱状的X光反射元和柱状的X光吸收元。X光反射元为空心结构,内壁镀有反射层,低能X光可以X光反射元中传输并被通道内壁反射,得到低通高阻的选能效果。X光吸收元为实心结构,其掺杂有X光吸收剂,可以对高能X光进行吸收,提高选能效率和成像及探测的信噪比。一种二值化X光选能器件的制备方法,其将反射元单丝和吸收元单丝在套管内进行堆积组合,得到复丝棒;再对复丝棒进行热拉伸,切割,热熔合,腐蚀,沉积金属等步骤,得到二值化X光选能器件。其操作简单方便,对设备要求低,制备过程的可控性高,精度高。

    微结构增强反射式光阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN105047505A

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201510279955.X

    申请日:2015-05-27

    Inventor: 樊龙 邓博 曹柱荣

    Abstract: 一种微结构增强反射式光阴极的制备方法,该方法采用酸、碱溶液对微通道板进行交替处理,获得表面具有倒圆锥后凹式微结构阵列的微结构增强基底,再采用物理气相沉积法在微结构增强基底表面依次镀制电极层和光电发射层,制得微结构增强反射式光阴极。通过该方法获得的微结构增强反射式光阴极可大幅度提高光阴极的量子效率和对微弱信号的探测能力,光电发射均匀性和稳定性好,适用于空间分辨的大尺度光电发射面应用,该方法还具有工艺流程简单、成本低廉等优点。

    一种超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统

    公开(公告)号:CN104819987A

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201510155700.2

    申请日:2015-04-02

    Abstract: 本发明提供了一种超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统,它包括两块掠入射曲面X光光学器件,分别命名为第一光学器件和第二光学器件,第一光学器件和第二光学器件的光轴正交,由物点发出的X光经过第一光学器件反射,在子午方向实现聚焦形成准单色化的一维图像,再经过第二光学器件在弧矢方向实现分光并聚焦,形成高单色化的二维图像,最后成像到记录介质上。本发明的超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统具有空间分辨高,能量分辨好,像差小的特点,很好的克服了传统X射线显微镜的缺点。

    一种条纹相机光阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN109087837B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201810950790.8

    申请日:2018-08-21

    Abstract: 本发明公开了一种条纹相机光阴极的制备方法。该制备方法首先以多孔阳极氧化铝为模板,通过物理气相沉积和干法刻蚀在抛光硅片表面制备出纳米尺度的柱状微结构阵列。再以该柱状微结构阵列为模板,制备出具有微孔阵列结构的有机薄膜。将有机薄膜转移至光阴极支架上作为支撑衬底,采用物理气相沉积法在有机薄膜上依次镀制导电层和光电发射层,最终制备出表面具有纳米尺度微孔结构阵列的条纹相机光阴极。该方法实现了纳米级微孔阵列结构的条纹相机光阴极制备,可大幅度提高光阴极的谱响应灵敏度,同时具有较宽的谱响应范围,能够进行从紫外光到硬X射线的谱响应,适用于高空间分辨的条纹相机应用。该方法还具有工艺流程简单、成本低廉等优点。

    一种X光宽带选能器件及其制作方法

    公开(公告)号:CN108877961A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201810647471.X

    申请日:2018-06-22

    Abstract: 本发明公开了一种X光宽带选能器件,该选能器件包括纳米柱阵列、薄金属层和支撑膜;纳米柱阵列制作在薄金属层的上表面,薄金属层的下表面粘贴支撑膜。该选能器件具有微元尺寸小、选能精度高的优点,可应用于空间分辨几个微米的成像诊断设备,实现带谱成像诊断。本发明还公开了一种X光宽带选能器件的制作方法,该方法利用X射线光刻技术在聚碳酸酯材料上打孔,再利用电化学沉积的方式在孔洞里生长纳米柱,可形成柱体垂直度高、侧壁粗糙度好的纳米柱;还可根据待选能段特征,制作任意高深宽比的正方形纳米柱阵列,通过灵活设计纳米柱的柱高、薄金属层的材料与厚度,以及X射线的掠入射角度可以实现软X射线范围内的任意能段范围的带通选能。

    微结构增强反射式光阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN105047505B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510279955.X

    申请日:2015-05-27

    Inventor: 樊龙 邓博 曹柱荣

    Abstract: 一种微结构增强反射式光阴极的制备方法,该方法采用酸、碱溶液对微通道板进行交替处理,获得表面具有倒圆锥后凹式微结构阵列的微结构增强基底,再采用物理气相沉积法在微结构增强基底表面依次镀制电极层和光电发射层,制得微结构增强反射式光阴极。通过该方法获得的微结构增强反射式光阴极可大幅度提高光阴极的量子效率和对微弱信号的探测能力,光电发射均匀性和稳定性好,适用于空间分辨的大尺度光电发射面应用,该方法还具有工艺流程简单、成本低廉等优点。

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