一种用于不同晶体X射线衍射效率的直接比对系统

    公开(公告)号:CN111443101A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN202010273067.8

    申请日:2020-04-09

    Abstract: 本发明提供了一种用于不同晶体X射线衍射效率的直接比对系统,该系统包括光源、瞄准节、腔体、光窗、含不同晶体的多路光路系统和记录设备,其中每一路光路系统包括一个光阑和一个晶体;光窗开在腔体一端的侧面上,方便光线进入腔体内部,光源和瞄准节位于腔体外部;多路光路系统和记录设备置于腔体内部。本发明的用于不同晶体X射线衍射效率的直接比对系统,采用同一光源,保证了多光路系统入射光线谱信号的一致性,采用了同一记录设备响应,保证了设备响应函数的一致性,本系统可同时检测多种不同晶体,提高了检测效率,用同一记录设备记录检测结果可以节省打靶资源。因此,本发明可以实现不同晶体X射线衍射效率得直接对比探测,不受复杂应用场景限制,具有广阔且重要的应用前景。

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