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公开(公告)号:CN113739717B
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN202110962375.6
申请日:2021-08-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种在机测量系统中的线激光传感器位姿标定方法,包括以下步骤:将在机测量系统的坐标系划分为传感器测量坐标系OMXMYMZM、刀具坐标系OCXCYCZC和工件坐标系OPXPYPZP;以标准平面和标准球为测量对象,根据机床的多维平移信息和线激光传感器测得的距离信息计算线激光传感器的三维姿态,实现传感器测量坐标系向工件坐标系的转换;利用传感器夹具采用并行调节的方式将线激光传感器的三维姿态调节至理想姿态。本发明适用于三轴、四轴和五轴数控机床,具有低标定误差,能将工件三维轮廓的检测精度提升至几十甚至十几微米的水平,能够提高工件的加工精度和加工效率。
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公开(公告)号:CN109128511B
公开(公告)日:2021-02-02
申请号:CN201811060748.5
申请日:2018-09-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/03 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本申请提供一种激光抛光系统及方法。所述系统包括控制单元、激光发射器、光束整形组件、移动平台及激光干涉仪。待抛光物件固定在移动平台上并由移动平台带动;光束整形组件设置在激光发射器的激光光路上,用于对激光进行光束整形,并将整形后的激光投射到待抛光物件的待抛光表面上进行抛光;控制单元与激光干涉仪电性连接,用于控制激光干涉以对待抛光表面进行抛光面形检测得到对应的面形检测数据;控制单元还分别与激光发射器、光束整形组件及移动平台及电性连接,用于根据面形检测数据对激光发射器、光束整形组件及移动平台进行控制,使待抛光物件达到目标抛光效果。所述系统可对待抛光物件进行高精度抛光处理,提高物件抛光成品率。
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公开(公告)号:CN108972230B
公开(公告)日:2020-11-27
申请号:CN201811049182.6
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种光学元件加工装置及加工方法,该装置包括加工真空腔室以及多个团簇离子束产生装置,加工真空腔室内设置有用于放置待加工光学元件的运动台,各团簇离子束产生装置设置在加工真空腔室顶部,并连接在加工真空腔室的开口处。各团簇离子束产生装置用于对不同种类的源气进行处理以得到不同的团簇离子束,并将产生的团簇离子束输送至加工真空腔室,并作用于光学元件的表面以对光学元件进行面形修整加工。如此,在光学元件进样、抽真空及位置坐标确定的情况下,可实现不同团簇离子束加工模式的集成加工,保障光学元件在无衍生缺陷的高精度面形修整加工的前提下,提高光学元件的加工效率。
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公开(公告)号:CN109079313A
公开(公告)日:2018-12-25
申请号:CN201811045140.5
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/352 , B23K26/70
Abstract: 本发明涉及激光抛光技术领域,具体涉及一种激光抛光设备及方法,设备包括:第一激光器,用于发出第一激光光束并通过扫描器投射至放置于加工平移台的待加工工件以形成加工区域;高温计,用于采集加工区域的温度数据;第二激光器,用于发出第二激光光束至探测焦点;探测器,用于探测探测焦点处在第二激光光束作用下产生的光信号;光谱仪,用于根据光信号获得光谱信息,控制装置用于根据光谱信息以及温度数据控制加工平移台的移动速度和扫描器在扫描方向的扫描速度。通过上述设置,以实现根据温度数据和光谱信号对扫描速度和平台的移动速度进行反馈控制,避免通过改变激光功率对激光光斑大小造成影响,进而造成加工稳定性差的问题。
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公开(公告)号:CN108890449A
公开(公告)日:2018-11-27
申请号:CN201811048863.0
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种光学元件面形修正方法及装置,该装置包括多个团簇离子束产生装置,各所述团簇离子束产生装置的输入口与提供不同源气的源气供给单元连接。通过利用集成了多个团簇离子束产生装置的加工装置,在待加工光学元件的不同的面形精度的情况下,选择适宜的团簇离子束产生装置以产生对应的团簇离子束,并以不同的加工模式对待加工光学元件进行加工,在提高待加工光学元件面形精度的同时降低加工区域的表面粗糙度。
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公开(公告)号:CN108838548A
公开(公告)日:2018-11-20
申请号:CN201811043552.5
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/36 , B23K26/067 , B23K26/402 , C03B25/00
Abstract: 本申请实施例提供一种激光抛光装置及抛光方法,涉及抛光技术领域。其中,所述装置通过分束器将激光器发出的初始光束分为第一光束、第二光束和第三光束,然后通过扫描器接收所述第一光束、第二光束和第三光束,并将所述第一光束、第二光束和第三光束投射到待加工元件,在待加工元件上形成第一光束对应的预热光斑、第二光束对应的抛光光斑以及第三光束对应的退火光斑,实现了在抛光处理的同时对待加工元件进行预热和退火,避免了在对玻璃等脆性材料进行抛光的过程中由于温度梯度较大产生热应力导致加工元件产生裂纹。
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公开(公告)号:CN114406450B
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202210086844.7
申请日:2022-01-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/046 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种激光加工中高均匀紧聚焦长光针的调控装置与方法,装置包括:激光器、空间光调制器、偏振分光棱镜、球面透镜、反射镜、4f系统和空间滤波光阑;该方法对高均匀长焦深焦功能和紧聚焦功能进行分离设计:采用优化设计的非球面全息相位实现纵向高均匀长焦深功能;采用像传递原理对高均匀长焦深光束进行横向尺寸压缩提高光场分辨率实现其紧聚焦功能,形成高均匀紧聚焦飞秒长光针,实现大深宽比结构的飞秒激光加工需求。
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公开(公告)号:CN114406450A
公开(公告)日:2022-04-29
申请号:CN202210086844.7
申请日:2022-01-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/046 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种激光加工中高均匀紧聚焦长光针的调控装置与方法,装置包括:激光器、空间光调制器、偏振分光棱镜、球面透镜、反射镜、4f系统和空间滤波光阑;该方法对高均匀长焦深焦功能和紧聚焦功能进行分离设计:采用优化设计的非球面全息相位实现纵向高均匀长焦深功能;采用像传递原理对高均匀长焦深光束进行横向尺寸压缩提高光场分辨率实现其紧聚焦功能,形成高均匀紧聚焦飞秒长光针,实现大深宽比结构的飞秒激光加工需求。
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公开(公告)号:CN109262134B
公开(公告)日:2021-08-20
申请号:CN201811044678.4
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的光学元件制备方法和激光干燥处理系统,涉及激光技术领域。其中,所述光学元件制备方法包括:制备溶胶‑凝胶;提供一熔石英基底,并通过所述溶胶‑凝胶在所述熔石英基底的一表面制作形成一光学膜层;通过激光对所述光学膜层进行干燥处理,以得到包括熔石英基底和光学膜层的熔石英光学元件。通过上述方法,可以进一步提升现有的熔石英光学元件的透光率。
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公开(公告)号:CN109079313B
公开(公告)日:2020-08-11
申请号:CN201811045140.5
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/352 , B23K26/70
Abstract: 本发明涉及激光抛光技术领域,具体涉及一种激光抛光设备及方法,设备包括:第一激光器,用于发出第一激光光束并通过扫描器投射至放置于加工平移台的待加工工件以形成加工区域;高温计,用于采集加工区域的温度数据;第二激光器,用于发出第二激光光束至探测焦点;探测器,用于探测探测焦点处在第二激光光束作用下产生的光信号;光谱仪,用于根据光信号获得光谱信息,控制装置用于根据光谱信息以及温度数据控制加工平移台的移动速度和扫描器在扫描方向的扫描速度。通过上述设置,以实现根据温度数据和光谱信号对扫描速度和平台的移动速度进行反馈控制,避免通过改变激光功率对激光光斑大小造成影响,进而造成加工稳定性差的问题。
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