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公开(公告)号：CN112077673B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202010858395.4
申请日：2020-08-24
申请人： 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
摘要： 本发明提出了一种核壳结构的“氧化物‑石墨烯”的加工装置及方法，加工装置包括控制罩、冲洗机构、配料机构、气体控制系统和上夹具，控制罩内设置有应力加载机构，应力加载机构与上夹具相连，上夹具的下方设置有运动台，运动台包括支撑机构，支撑机构的上端设置有可沿X轴方向或Y轴方向往复运动的移动平台，移动平台的上端设置有环形的收集槽，收集槽与收集装置相连，收集槽内设置有旋转平台，旋转平台的上端设置有与上夹具配合的模块式夹具，气体控制系统和控制罩相连。本发明往复摩擦的基础上同时进行旋转式摩擦，可以根据不同原料以及要求进行压力的突变，使得到的产品满足颗粒大小以及核壳结构的层数，保证产品的多样性以及工作效率。
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公开(公告)号：CN112063433B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010859510.X
申请日：2020-08-24
申请人： 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
IPC分类号： C10M125/02 , C10M125/10 , B82Y30/00 , B82Y40/00
摘要： 本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，制备步骤为：(1)在不锈钢基底上均匀镀覆类金刚石薄膜，得到下基底片；(2)在下基底片的类金刚石薄膜界面上铺展氧化铝纳米颗粒，得到上基底片；(3)在惰性气体条件下，将上基底片和下基底片向同一方向交替旋转对磨，制备核壳结构的氧化铝‑石墨烯。本发明通过摩擦法，制备出“氧化铝‑石墨烯”的核壳结构。制备工艺简单，操作性强，可大批量生产，适用于工业生产和应用。
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公开(公告)号：CN112063433A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010859510.X
申请日：2020-08-24
申请人： 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
IPC分类号： C10M125/02 , C10M125/10 , B82Y30/00 , B82Y40/00
摘要： 本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，制备步骤为：(1)在不锈钢基底上均匀镀覆类金刚石薄膜，得到下基底片；(2)在下基底片的类金刚石薄膜界面上铺展氧化铝纳米颗粒，得到上基底片；(3)在惰性气体条件下，将上基底片和下基底片向同一方向交替旋转对磨，制备核壳结构的氧化铝‑石墨烯。本发明通过摩擦法，制备出“氧化铝‑石墨烯”的核壳结构。制备工艺简单，操作性强，可大批量生产，适用于工业生产和应用。
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公开(公告)号：CN112077673A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202010858395.4
申请日：2020-08-24
申请人： 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
摘要： 本发明提出了一种核壳结构的“氧化物‑石墨烯”的加工装置及方法，加工装置包括控制罩、冲洗机构、配料机构、气体控制系统和上夹具，控制罩内设置有应力加载机构，应力加载机构与上夹具相连，上夹具的下方设置有运动台，运动台包括支撑机构，支撑机构的上端设置有可沿X轴方向或Y轴方向往复运动的移动平台，移动平台的上端设置有环形的收集槽，收集槽与收集装置相连，收集槽内设置有旋转平台，旋转平台的上端设置有与上夹具配合的模块式夹具，气体控制系统和控制罩相连。本发明往复摩擦的基础上同时进行旋转式摩擦，可以根据不同原料以及要求进行压力的突变，使得到的产品满足颗粒大小以及核壳结构的层数，保证产品的多样性以及工作效率。
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公开(公告)号：CN118650755A
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202411071205.9
申请日：2024-08-06
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
摘要： 本发明涉及机械工程技术领域，且公开了一种多边形聚晶金刚石复合片切割装置，包括切割结构，所述切割结构前端设置有固定结构，所述切割结构底端设置有支撑结构，所述固定结构与支撑结构连接处设置有限位框，所述切割结构与支撑结构连接处设置有固定架，所述切割结构包括固定架，所述固定架顶端开设有固定孔，通过将拉杆在限位孔内部拉动，使得压板向上移动，第一弹簧压缩形变，材料放置于压板下端，便于将材料进行固定，使得切割装置更加稳定，通过将桌架底端设置有衔接框和收集槽，便于对切割灰尘进行收集，固定框内部弹簧推动卡接柱插入桌架和护板卡孔内部进行固定。
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公开(公告)号：CN116751517A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310701070.9
申请日：2023-06-14
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明公开一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法，它包括A组分和B组分，所述A组分包括催化剂、氧化剂1、pH调节剂、微纳气泡水，所述B组分为磨料、微纳气泡水、氧化剂2。使用时将A组分与B组分以一定速率同步滴加于工件表面，在紫外光照的条件下实现材料的高效去除。本发明的抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。
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公开(公告)号：CN115976587B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310140003.4
申请日：2023-02-21
申请人： 中国地质大学(北京) , 深圳市奥缘科技有限公司 , 中国地质大学(北京)郑州研究院
摘要： 本发明提出了一种电解着色表面氧化层低反射率的生产工艺及系统，该工艺包括：根据初始电解条件获取电解着色后的初始工件，获取初始工件表面的初始平均灰度值△Ga1，根据△Ga1与Ga0之间的比对结果确定是否对初始电解条件进行调整，当△Ga1＞Ga0时，则获取初始工件表面的初始反射率△Rei，将初始反射率△Rei与预设标准反射率Re0进行比对，当△Rei＞Re0时，则将初始电解条件调整为第一电解条件，并根据第一电解条件对后续工件进行电解着色。本发明能够有效地根据工件表面的灰度变化及时地调整电解条件，以降低后续生产的工件的反射率，从而能够有效地控制低反射率工件生产条件，并能够有效地调整电解参数，极大地提高了低反射率工件的生产效率。
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公开(公告)号：CN116394075A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310250087.7
申请日：2023-03-13
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC分类号： B24B1/00 , B24B29/00 , B24B27/033 , B24B57/02 , B24B55/00
摘要： 本发明公开一种金刚石光催化高效抛磨装置，它包括腔体，所述的腔体内部为上粗下细的漏斗状，在底部设有喷嘴，在腔体的上部侧壁上连通有输液管，输液管上安装有压力表，所述腔体的顶部安装有光源，在腔体的正下方设有用于放置金刚石样品的载物台。本发明将抛光液光催化过程与水射流结合起来，实现了光催化过程与水射流的同步发生，在抛光液氧化金刚石表面碳原子的同时去除金刚石表面材料，提高抛光效率，同时，方法简单、设备简单易操作。
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公开(公告)号：CN114990465B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202210654001.2
申请日：2022-06-10
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
摘要： 本发明提供了一种涡轮钻具耐磨损叶片及其制备方法和应用，涉及深部地质钻探技术领域。耐磨损叶片具体包括叶片基体1、位于基体表面的具有多层结构的AlxCoCrFeNi高熵合金涂层2以及在任意相邻两层所述AlxCoCrFeNi高熵合金涂层之间设置的调节层3；其中，x的范围为0～2。在本发明中，采用依次增加Al原子百分比制备AlxCoCrFeNi高熵合金涂层，再与Ni‑P/Al2O3调节层交替复合制备成梯度涂层，从而增强高熵合金涂层与叶片基体的结合能力；通过真空热处理高熵合金涂层，提高涂层的组织致密度、硬度以及涂层间的结合力，进而极大地增强涡轮钻具叶片的综合耐磨性能。本发明方案提供的耐磨损叶片具有优异的力学强度和耐磨损能力，可以作为涡轮钻具的作业叶片，适用于各种钻探苛刻工况条件。
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公开(公告)号：CN115625615A
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202211336368.6
申请日：2022-10-28
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC分类号： B24B29/02 , B24B57/02 , B24B57/00 , B24B49/14 , B24B55/00 , B24B47/12 , B24B41/06 , B24B41/04
摘要： 本发明涉及单晶金刚石加工技术领域，具体是一种气氛环境和温度可控的单晶金刚石抛光装置，包括底座，所述底座的顶部开设有抛光腔室，所述抛光腔室内安装有抛光盘，所述抛光盘底部传动连接有驱动机构，所述底座顶部一侧靠近所述抛光腔室位置处安装有平衡架，所述平衡架的一侧安装有U型架，本发明采用的气氛保护罩，由四块方形的透明玻璃组成,设有左右向开合的推拉门，使工作台处于封闭环境,此外，抛光板设有加热装置，且真空吸盘上设置的多个孔径安装了温度传感器，可以控制抛光温度，监测表面温度，实现对抛光环境的监测可控。
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