一种高频D板的调平找正装置

    公开(公告)号:CN112930021B

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202110265314.4

    申请日:2021-03-11

    IPC分类号: H05H13/00 H05H13/02

    摘要: 本发明公开了一种高频D板的调平找正装置,包括高频D板调平机构2、高频D板安装工装3,所述高频D板调平机构2用于实现高频D板垂向位置和水平位置的可调整,所述高频D板安装工装3为高频D板垂向位置和水平位置调整提供基准面和基准孔。本发明通过将高频D板调平机构与高频D板安装工装进行有机结合、相互支撑和相互依赖,产生了组合带来的新效果。组合以后,采用高频D板调平机构实现高频D板垂向位置和水平位置的可调整、采用高频D板安装工装为高频D板垂向位置和水平位置调整提供基准面和基准孔,实现了D板位置可以调整,使之能够满足物理设计要求,而且方便快捷、实用。

    一种快钳式真空绝缘密封连接装置

    公开(公告)号:CN112888142B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202110065399.1

    申请日:2021-01-19

    IPC分类号: H05H13/00

    摘要: 本发明公开了一种快钳式真空绝缘密封连接装置,包括两条金属连接管道、两个金属KF系列法兰、两个绝缘套、绝缘中心支架、O型密封圈、金属快钳式卡箍;所述两条金属连接管道,一条连接加速器、另一条接生产靶;所述的绝缘中心支架布设在两条金属连接管道的两个端面、及两个KF系列法兰的两个端面之间,所述绝缘套分别环套在各自KF系列法兰外壁上、用于径向隔离KF系列法兰及快钳式卡箍之间的导电性;所述绝缘中心支架的内径d>金属连接管道的通径D,用以减少高功率束流扫射到绝缘中心支架上。本发明通过互换束流过渡管道上绝缘材料和金属材料的位置,不但解决了现有技术绝缘管道容易被高功率束流损坏而漏真空的问题,还解决了快捷拆卸问题。

    一种用于医用同位素生产靶的水冷机构

    公开(公告)号:CN110828021B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN201911066928.9

    申请日:2019-11-04

    IPC分类号: G21G1/10 H05H6/00

    摘要: 本发明涉及医用同位素生产靶的技术领域,尤其是涉及一种用于医用同位素生产靶的水冷机构。一种用于医用同位素生产靶的水冷机构,包括相连接的医用同位素生产靶靶体、生产靶前端盖以及水冷密封板,所述医用同位素生产靶靶体的其中一端成型有冷却槽,冷却槽包括进水槽、出水槽以及连接进水槽和出水槽的热交换槽,所述水冷密封板上开设有与进水槽相连的进水孔以及与出水槽相连通的出水孔。通过进水孔向冷却槽内注入冷却水,冷却水从净水槽经过热交换槽后进入出水槽,然后通过出水孔排出。由于是通过冷却水将热量带走,而且后续还会不断向冷却槽内输入新的冷却水,因此能够使得水冷机构一致维持在高效降温的状态。

    一种可动态切换的束流筛选装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116321668A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310455622.2

    申请日:2023-04-25

    IPC分类号: H05H13/00 H05H7/00

    摘要: 本发明公开了一种可动态切换的束流筛选装置,该束流筛选装置沿着回旋加速器竖直方向从加速器盖板之外贯穿到加速器盖板之内、并截止于加速器中心平面上,该束流筛选装置包括:顶端布设在加速器盖板以外的一组或多组驱动装置、布设在该一组或多组驱动装置下端且位于加速器盖板以内的T型铝型框架、布设在该T型铝型框架的水平铝型材上的一组或多组狭缝卡束机构、分别沿着竖直方向和水平方向推动一组或多组狭缝卡束机构的一组或多组推杆机构;本发明通过调节上下推杆组上下移动的距离来间接调整狭缝卡束机构在导向槽板中的水平移动距离,从而控制狭缝在束流路径径向上的位置。这个功能对束流调试与诊断和不同使用工况的动态切换具有重要意义。

    一种用于医用同位素F-18生产的液体靶

    公开(公告)号:CN112399695A

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN202011309888.9

    申请日:2020-11-20

    IPC分类号: H05H6/00 G21G1/10

    摘要: 本发明公开了一种医用同位素F‑18生产的液体靶,采用水冷代替氦冷简化了结构。由于充分利用了限束法兰、连接法兰、和靶体自身的空间,不单独额外占用空间,在限束法兰、连接法兰、和靶体上开设水道,而无需在靶体前端和限束法兰之间因为要对靶窗(哈瓦膜)冷却而专门布设氦冷装置,这样就使得液体靶的长度缩短,简化了结构;本发明省去一项或多项要素后,依然保持原有的全部功能。拆卸时只需要将第一卡箍拆开,在很短的时间内即可将第一卡箍右侧的所有部件整体拿下来放到废弃箱进行辐射的退却,同时也使得加速器端不会因为拆卸时间过长而长时间暴露在空气中被氧化,有效缩短了工作人员因为拆装不便而被束流辐射的时间。

    一种接近圆形的可调整束流狭缝装置

    公开(公告)号:CN110719684A

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201911062404.2

    申请日:2019-11-02

    IPC分类号: H05H13/00 H05H7/00

    摘要: 本发明公开了一种接近圆形的可调整束流狭缝装置,该束流狭缝装置可用于直流束流切割装置、且安装在直流束流切割装置的束流切割器极板之后,也可安装在加速器束流传输系统中;所述可调整束流狭缝装置包括狭缝头部的两个直角开口大小相同、相对而设的直角挡块、一个同时驱动狭缝头部两个直角挡块的驱动机构、及位置检测反馈装置;所述同时驱动狭缝头部两个直角挡块的驱动机构由狭缝端PLC控制器控制,整个装置通过狭缝端PLC控制器集成到加速器控制系统中。本发明实现了束流脉宽连续变化的过程中,束流狭缝始终接近圆形,从而最大限度地保证了束流的聚集效果,使得束流通过狭缝时被分散掉的束流达到最小,提高了束流流强和传输的束流品质。

    用于医疗装置中的旋转式束流拦阻装置

    公开(公告)号:CN109157760A

    公开(公告)日:2019-01-08

    申请号:CN201810892019.X

    申请日:2018-08-07

    IPC分类号: A61N5/10

    摘要: 本发明涉及回旋加速器技术领域,公开了用于医疗装置中的旋转式束流拦阻装置,包括真空密封盒及安装于真空密封盒上的拦阻机构,真空密封盒上贯穿设有供束流通过的传输通孔,拦阻机构包括安装于真空密封盒腔体内的支撑摆臂、驱动支撑摆臂摆动的驱动机构,及位于支撑摆臂端部的拦阻筒,支撑摆臂与驱动机构之间通过一转轴传动,转轴通过驱动机构驱动绕其轴心自转,拦阻筒平行于束流方向,拦阻筒的运动轨迹覆盖束流传输通孔。通过拦阻筒平行于束流线,合理化利用束流线空间,为其他装置的布局提供了空间,同时通过驱动缸驱动拦阻筒以转轴为轴心形成角度的偏转,实现了对束流的快速隔断,提高了医疗装置的安全可靠性,保证患者和工作人员的安全。

    用于回旋加速器内部离子源的位置调节方法

    公开(公告)号:CN108848606A

    公开(公告)日:2018-11-20

    申请号:CN201810770835.3

    申请日:2018-07-13

    IPC分类号: H05H7/08 H05H13/00

    摘要: 本发明公开了一种回旋加速器及其内部离子源位置的调节方法,其中该调节方法包括以下步骤:在所述内部离子源的尾部法兰处设置用于调节所述内部离子源位置的位置调节结构,其中所述达标位置在所述位置调节结构的调节位置范围之内;在将所述内部离子源与中心区主磁铁进行装配时,根据引出束流各个参数的要求标准,使用所述位置调节结构对所述内部离子源的位置进行调节;当所述引出束流的各个参数均达标时,停止对所述内部离子源的位置调节,并计算出此时所述内部离子源所处的位置,将该位置作为所述内部离子源的所述达标位置。本发明能将内部离子源的位置调节到达标位置,保证回旋加速器整机的稳定运行。

    一种质子加速器束流冷却装置

    公开(公告)号:CN108633160A

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201810849279.9

    申请日:2018-07-28

    IPC分类号: H05H7/00 F28D15/02 F25B21/02

    摘要: 本发明公开了一种质子加速器束流冷却装置,属于质子加速器领域,包括导热束流阻断体,所述导热束流阻断体侧壁上开设有存储凹槽,所述存储凹槽内存储有冷却液;开设有存储凹槽的所述导热束流阻断体与中空管体一端相连,所述中空管体另一端与导热冷凝体相连,所述导热束流阻断体的凹槽、中空管体的内腔和冷凝体之间形成供冷却液冷却的冷却内腔。本发明具有以下优点和效果:其通过热传导的方式散热,不仅能够保证束流阻断体的散热效果,而且能够降低对治疗装置的污染。

    一种超导回旋加速器的中心区双过桥电极装置

    公开(公告)号:CN106132067B

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201610617750.2

    申请日:2016-07-29

    IPC分类号: H05H13/00

    摘要: 本发明涉及一种超导回旋加速器的中心区双过桥电极装置,所述装置包括:圆周方向上等分布置的四个Dee板(8,9,10,11),分为两组,每两个相对的Dee板为一组;下过桥连接件(2),从下部连接一组相对的Dee板(9,11)的头部(7,5);上过桥连接件(3),从上部连接另一组相对的Dee板(8,10)的头部(4,6)。本发明解决了单过桥电极结构中存在的腔体电压分布不平衡、谐振频率调节困难和高频发射机负载大的问题,大大降低了超导回旋加速器高频系统的研制难度,有利于加速器的束流调试和加速器的稳定运行。