成膜装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111868297A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201980017252.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置,能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜,且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中,在加热室(H1)的加热空间(91)内执行通过输送机(33)使基板(10)沿着基板移动方向(D1)移动的第一加热处理。然后,执行通过输送机(13)使基板(10)沿着搬运方向(D3)移动的第一搬运处理。此时,通过薄膜形成喷嘴(11H,11L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。接着,执行基于输送机(43)的第二加热处理。然后,执行基于输送机(23)的第二搬运处理。此时,通过薄膜形成喷嘴(12H,12L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。

    成膜装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111868297B

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN201980017252.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置,能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜,且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中,在加热室(H1)的加热空间(91)内执行通过输送机(33)使基板(10)沿着基板移动方向(D1)移动的第一加热处理。然后,执行通过输送机(13)使基板(10)沿着搬运方向(D3)移动的第一搬运处理。此时,通过薄膜形成喷嘴(11H,11L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。接着,执行基于输送机(43)的第二加热处理。然后,执行基于输送机(23)的第二搬运处理。此时,通过薄膜形成喷嘴(12H,12L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。

    成膜装置
    3.
    发明公开
    成膜装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN111868298A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201980017491.1

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置,能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜,并且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中,沿着基板搬运路径用圆周(M1)配置加热室(H10)及成膜室(F10)。加热室(H10)及成膜室(F10)相互相邻地配置。通过基板搬运装置(8),沿着基板搬运路径用圆周(M1),以基板旋转方向(R1)为移动方向同时搬运多个基板(10)。在加热室(H10)内由红外光照射器(2,4)执行了基板(10)的加热处理之后,在成膜室(F10)内由薄膜形成喷嘴(1L,1H)执行对于基板(10)的雾喷射处理而在多个基板(10)的表面上及背面上分别成膜出薄膜。

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