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公开(公告)号：CN116829912A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180083155.4
申请日：2021-11-26
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: G01F1/74
Abstract: 本公开的目的是提供一种能够精度良好地求出原料雾的流量的雾流量测量装置。并且，在本公开的雾流量测量装置，由上游配管(7)、大径透明配管(31)及下游配管(8)的组合构成外部排出用配管。大径透明配管(31)内的雾流通区域的一部分为雾摄像用摄像机的摄像对象区域。大径透明配管(31)的内径(D31)设定为比上游配管(7)的内径(D7)及下游配管(8)的内径(D8)大的值。即，大径透明配管(31)、上游配管(7)及下游配管(8)具有{D31>D7＝D8}的关于内径的大小关系。
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公开(公告)号：CN107360730B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201580075408.8
申请日：2015-03-09
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/068 , H01L31/18
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够低制造成本、不对基板造成损伤且高生产效率地成膜膜质良好的钝化膜的太阳能电池的制造方法。而且，在本发明中，制作P型硅基板(4)，将包含铝的溶液雾化，在非真空下将雾化后的溶液对P型硅基板(4)的背面进行喷雾，由此将由氧化铝膜构成的背面钝化膜(5)成膜在P型硅基板(4)的背面上。此后，执行对P型硅基板(4)以及背面钝化膜(5)的界面照射紫外光(21)的光照射处理。
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公开(公告)号：CN106062971B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201480076630.5
申请日：2014-05-22
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H01L31/0256 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/1884 , H01L31/022483 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及一种配置于光吸收层与透明导电膜之间的、用于太阳能电池的缓冲层的成膜方法。具体来说，该缓冲层的成膜方法是使包含锌和铝作为上述缓冲层的金属原料的溶液(4)雾化。然后，对在大气压下配设的基板(2)进行加热。然后，向加热中的基板喷雾经雾化的溶液。
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公开(公告)号：CN105451891A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201380078729.4
申请日：2013-08-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: B05B17/06
CPC classification number: B05B17/06 , B05B17/0615
Abstract: 本发明的雾化装置(100)具有：收容溶液(15)的容器(1)；和将溶液(15)雾化的雾化器(2)。并且，在容器(1)内配设有内部空洞构造体(3)。并且，在雾化装置(100)中，向气体供给空间(1H)供给搬运气体。而且，形成有将内部空洞构造体(3)的空洞(3H)与气体供给空间(1H)连接的连接部(5)。
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公开(公告)号：CN104105817A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201280069377.1
申请日：2012-10-24
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C18/12
CPC classification number: H01B13/003 , C01G9/02 , C23C18/1216 , C23C18/14 , H01B1/08 , H01B13/0016
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够以低成本制作膜特性(低电阻)良好的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。并且，在本发明中，具备：(A)通过将含锌溶液(5)雾化，并将该雾化后的溶液(5)在非真空下对基板(1)进行喷雾，从而在基板(1)上使金属氧化膜(10)成膜的工序；和(B)通过对金属氧化膜(10)照射紫外线(13)，从而使金属氧化膜(10)的电阻降低的工序。此外，工序(B)具有：(B－1)根据金属氧化膜(10)的膜厚确定将要照射的紫外线(13)的波长的工序、和(B－2)向金属氧化膜(10)照射具有工序(B－1)中确定的波长的紫外线(13)的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103648974A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201180072244.5
申请日：2011-09-13
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: B05D3/0453 , B05C5/00 , B05D3/0466 , C23C16/18 , C23C16/40 , C23C16/4486 , C23C16/452
Abstract: 本发明提供一种氧化膜成膜方法，所述氧化膜成膜方法能够不受大气变动的影响地一直正常地形成氧化膜，在金属氧化膜的情况下能够形成低电阻的膜，并且成膜效率好。而且，在本发明中，在大气中，对基板（100）雾状喷出含有烷基化合物的原料溶液。然后，对雾状的原料溶液供给对烷基化合物具有氧化作用的氧化剂。通过以上的处理，在本发明中，在基板上形成氧化膜。
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公开(公告)号：CN118524895A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202280088052.1
申请日：2022-12-20
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: B05B17/06
Abstract: 本公开的目的在于提供一种能够响应性良好且准确地求出原料溶液雾的雾供给量的超声波雾化装置。本公开的超声波雾化装置(201)具有：非接触型雾供给配管(40)，不与包含雾输出用配管(1t)的雾化容器(1)接触，而设置于雾化容器(1)的上方；以及泄漏防止用水槽(45)，不与非接触型雾供给配管(40)接触，而与雾输出用配管(1t)连结。泄漏防止用水槽(45)容纳有密封适用液体(16)。此时，在设置在泄漏防止用水槽(45)与雾输出用配管(1t)之间的液体容纳空间(SP14)内也容纳有密封适用液体(16)。
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公开(公告)号：CN111868297B
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN201980017252.6
申请日：2019-02-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B05D3/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜，且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中，在加热室(H1)的加热空间(91)内执行通过输送机(33)使基板(10)沿着基板移动方向(D1)移动的第一加热处理。然后，执行通过输送机(13)使基板(10)沿着搬运方向(D3)移动的第一搬运处理。此时，通过薄膜形成喷嘴(11H，11L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。接着，执行基于输送机(43)的第二加热处理。然后，执行基于输送机(23)的第二搬运处理。此时，通过薄膜形成喷嘴(12H，12L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。
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公开(公告)号：CN111868298A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980017491.1
申请日：2019-02-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B05B13/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜，并且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中，沿着基板搬运路径用圆周(M1)配置加热室(H10)及成膜室(F10)。加热室(H10)及成膜室(F10)相互相邻地配置。通过基板搬运装置(8)，沿着基板搬运路径用圆周(M1)，以基板旋转方向(R1)为移动方向同时搬运多个基板(10)。在加热室(H10)内由红外光照射器(2，4)执行了基板(10)的加热处理之后，在成膜室(F10)内由薄膜形成喷嘴(1L，1H)执行对于基板(10)的雾喷射处理而在多个基板(10)的表面上及背面上分别成膜出薄膜。
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公开(公告)号：CN108699681A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082399.X
申请日：2016-04-26
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C14/50 , C23C16/02 , C23C16/44 , H01L21/677
Abstract: 本发明的目的在于提供一种将装置成本抑制到最小限度、并且抑制在成膜对象的基板产生翘曲或裂纹的现象的成膜装置。然后，本发明中，进行向基板装载台(3)的基板投入动作(M5)的吸附抓持器(4A)以及进行从基板装载台(3)的基板取出动作(M6)的吸附抓持器(4B)具有加热机构(42A以及42B)。因此，即使在由各吸附抓持器(4A以及4B)实现的基板(10)的抓持状态下，也能够进行通过加热机构(42A以及42B)对基板(10)进行加热的第一以及第二预加热处理。
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