金刚石基紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112670358A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011535536.5

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种金刚石基紫外探测器,包括金刚石薄膜、第一电极、第二电极和绝缘层;金刚石薄膜包括金刚石微柱、第一沟槽、第二沟槽和第三沟槽,金刚石微柱在金刚石薄膜的表面周期性排布,金刚石微柱之间的空隙为第三沟槽,第三沟槽的两侧分别设与其联通的第一沟槽、第二沟槽;第一电极在第一沟槽、第三沟槽上;第二电极在第二沟槽、第三沟槽上方;绝缘层在第一电极、第二电极堆叠的区域之间。本发明还公开了一种金刚石基紫外探测器的制备方法。本发明利用沟槽设置堆叠的第一电极和第二电极,提高金刚石薄膜表面占空比,增加载流子数量并实现其有效收集,提高了灵敏度和响应度。

    一种垂直结构LED芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN111697114B

    公开(公告)日:2021-01-12

    申请号:CN202010742093.0

    申请日:2020-07-29

    Abstract: 本发明公开了一种垂直结构LED芯片及其制备方法,所述芯片包括第一n‑GaN层、图形化反射层、第二反射层、第二n‑GaN层、多量子阱层、p‑GaN层和第二衬底;图形化反射层为间隔排列的凸形结构,图形化反射层为分布式布拉格反射镜。所述制法包括:在第一衬底上形成本征GaN层和第一n‑GaN层;覆盖第一反射层;刻蚀形成图形化反射层;覆盖第二反射层;刻蚀暴露出第一n‑GaN层未覆盖图形化反射层的表面;覆盖第二n‑GaN层、多量子阱层、p‑GaN层;将p‑GaN层与第二衬底键合;剥离第一衬底、本征GaN层,露出第一n‑GaN层。本发明出光效率高,能够有效缓解大电流注入时的电流拥堵效应,电流分布均匀。

    一种超表面透镜以及包含该超表面透镜的空间光调制器

    公开(公告)号:CN112925121B

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110107317.5

    申请日:2021-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种超表面透镜,依次包括介质层、导电层和电光调制材料层,电光调制材料层上设置若干互不联通的凹槽,凹槽内填充有金属电极;超表面透镜还包括电源,电源包括若干脉冲电压源,脉冲电压源的正极端与金属电极电性相连,负极端与导电层电性相连并接地,两两相邻的金属电极上加载的脉冲电压源的电压值互不相同。本发明还公开了一种空间光调制器,包括激光器和上述超表面透镜,超表面透镜设于激光器上。本发明能够通过电调构成超表面透镜的调制材料折射率,实现通过超表面透镜的光束的空间指向、光学焦距以及数值孔径的动态调节。

    金刚石基紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112670358B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202011535536.5

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本发明公开了一种金刚石基紫外探测器,包括金刚石薄膜、第一电极、第二电极和绝缘层;金刚石薄膜包括金刚石微柱、第一沟槽、第二沟槽和第三沟槽,金刚石微柱在金刚石薄膜的表面周期性排布,金刚石微柱之间的空隙为第三沟槽,第三沟槽的两侧分别设与其联通的第一沟槽、第二沟槽;第一电极在第一沟槽、第三沟槽上;第二电极在第二沟槽、第三沟槽上方;绝缘层在第一电极、第二电极堆叠的区域之间。本发明还公开了一种金刚石基紫外探测器的制备方法。本发明利用沟槽设置堆叠的第一电极和第二电极,提高金刚石薄膜表面占空比,增加载流子数量并实现其有效收集,提高了灵敏度和响应度。

    VCSEL单元单独可控的激光器

    公开(公告)号:CN111969414B

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202010868364.7

    申请日:2020-08-26

    Abstract: 本发明公开了一种VCSEL单元单独可控的激光器,包括驱动电路模块、VCSEL模块和微透镜模块,驱动电路模块和VCSEL模块电性连接,微透镜模块设于VCSEL模块上以实现光学聚焦;VCSEL模块包括VCSEL单元形成的VCSEL阵列和共阴极单元,共阴极单元设于VCSEL阵列的四周;VCSEL单元包括独立阳极和独立阴极,独立阴极均电性连接至共阴极单元,共阴极单元电性连接至驱动电路模块的地端,独立阳极电性连接至驱动电路模块的正极端。本发明能够单独控制各VCSEL单元,驱动电路模块、VCSEL模块和微透镜模块实现一体化集成式的空间堆叠,避免了部分VCSEL单元贴片高度不一致的问题。

    VCSEL单元单独可控的激光器

    公开(公告)号:CN111969414A

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN202010868364.7

    申请日:2020-08-26

    Abstract: 本发明公开了一种VCSEL单元单独可控的激光器,包括驱动电路模块、VCSEL模块和微透镜模块,驱动电路模块和VCSEL模块电性连接,微透镜模块设于VCSEL模块上以实现光学聚焦;VCSEL模块包括VCSEL单元形成的VCSEL阵列和共阴极单元,共阴极单元设于VCSEL阵列的四周;VCSEL单元包括独立阳极和独立阴极,独立阴极均电性连接至共阴极单元,共阴极单元电性连接至驱动电路模块的地端,独立阳极电性连接至驱动电路模块的正极端。本发明能够单独控制各VCSEL单元,驱动电路模块、VCSEL模块和微透镜模块实现一体化集成式的空间堆叠,避免了部分VCSEL单元贴片高度不一致的问题。

    一种垂直结构LED芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN111697114A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010742093.0

    申请日:2020-07-29

    Abstract: 本发明公开了一种垂直结构LED芯片及其制备方法,所述芯片包括第一n-GaN层、图形化反射层、第二反射层、第二n-GaN层、多量子阱层、p-GaN层和第二衬底;图形化反射层为间隔排列的凸形结构,图形化反射层为分布式布拉格反射镜。所述制法包括:在第一衬底上形成本征GaN层和第一n-GaN层;覆盖第一反射层;刻蚀形成图形化反射层;覆盖第二反射层;刻蚀暴露出第一n-GaN层未覆盖图形化反射层的表面;覆盖第二n-GaN层、多量子阱层、p-GaN层;将p-GaN层与第二衬底键合;剥离第一衬底、本征GaN层,露出第一n-GaN层。本发明出光效率高,能够有效缓解大电流注入时的电流拥堵效应,电流分布均匀。

    一种超表面透镜以及包含该超表面透镜的空间光调制器

    公开(公告)号:CN112925121A

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN202110107317.5

    申请日:2021-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种超表面透镜,依次包括介质层、导电层和电光调制材料层,电光调制材料层上设置若干互不联通的凹槽,凹槽内填充有金属电极;超表面透镜还包括电源,电源包括若干脉冲电压源,脉冲电压源的正极端与金属电极电性相连,负极端与导电层电性相连并接地,两两相邻的金属电极上加载的脉冲电压源的电压值互不相同。本发明还公开了一种空间光调制器,包括激光器和上述超表面透镜,超表面透镜设于激光器上。本发明能够通过电调构成超表面透镜的调制材料折射率,实现通过超表面透镜的光束的空间指向、光学焦距以及数值孔径的动态调节。

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