公开(公告)号：CN117940853A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202280061766.3

申请日：2022-09-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永原诚司 ,  C·丁恩 ,  村松诚

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种形成抗蚀图案的方法，其依次包括：对含有抗蚀材料的抗蚀膜的一部分照射第一射线的步骤；对抗蚀膜进行烘烤的步骤；对抗蚀膜中包括照射了第一射线的部分以及此外的部分的全部区域整体照射第二射线的步骤；和通过显影将抗蚀膜的一部分除去来形成抗蚀图案的步骤。

公开(公告)号：CN120019332A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202380072042.3

申请日：2023-10-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： C·丁恩 ,  永原诚司 ,  村松诚

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种基片处理方法，包括：使用极性显影材料和非极性显影材料，对形成了负型的含金属抗蚀剂的覆膜、并进行了曝光处理及所述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的工序。