公开(公告)号：CN114235787A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202111049709.7

申请日：2021-09-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永井龙 ,  田中康基 ,  赤羽修平

IPC: G01N21/73 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供分析装置、分析方法、记录介质及等离子体处理控制系统，用于使用在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组来定量地评价处理空间的状态。分析装置具有：计算部，其将在进行等离子体处理的处理空间中测定的时间序列数据组中的、在作为比控制区间靠前的规定时间的判断区间中测定的时间序列数据组输入到时间序列分析模型中，来计算相对于所述处理空间的基准状态的偏离度；以及确定部，其基于进行所述计算得到的偏离度来确定特性值，该特性值用于决定所述控制区间中的对基板进行等离子体处理时的控制数据。

公开(公告)号：CN115968092A

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN202211213444.4

申请日：2022-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 赤羽修平 ,  永井龙 ,  田中康基

IPC: H05H1/00 ,  G06F30/20

Abstract: 本发明提供一种对进行等离子体处理的处理空间内的状态进行量化的基片处理系统、信息处理装置、信息处理方法和程序。基片处理系统包括：获取部，其在每次对基片进行等离子体处理时，获取多种时序数据；学习部，其通过计算第一阶段中获取的多种时序数据中的每一种时序数据的数据密集度，来生成与时序数据的种类数相应的数量的学习后的离群值检测模型；和量化部，其通过将第二阶段中获取的多种时序数据分别输入到对应的学习后的离群值检测模型，计算与第一阶段中获取的多种时序数据的偏离度，来对第二阶段中的处理空间内的状态进行量化。