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公开(公告)号:CN111727490B
公开(公告)日:2024-07-09
申请号:CN201980013826.2
申请日:2019-02-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/768 , H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/311
Abstract: 提供了一种工艺,其中,形成了图案化层、中间层以及要根据该图案化层的图案来蚀刻的第一层。该中间层可以是可以通过基于热的去除工艺来去除的热分解层。在蚀刻该第一层之后,使用基于热的去除工艺可以允许在不改变该第一层的情况下从衬底去除该中间层。在一个实施例中,该第一层可以是记忆层,并且该工艺可以是多重图案化工艺。
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公开(公告)号:CN111727490A
公开(公告)日:2020-09-29
申请号:CN201980013826.2
申请日:2019-02-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/768 , H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/311
Abstract: 提供了一种工艺,其中,形成了图案化层、中间层以及要根据该图案化层的图案来蚀刻的第一层。该中间层可以是可以通过基于热的去除工艺来去除的热分解层。在蚀刻该第一层之后,使用基于热的去除工艺可以允许在不改变该第一层的情况下从衬底去除该中间层。在一个实施例中,该第一层可以是记忆层,并且该工艺可以是多重图案化工艺。
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