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公开(公告)号：CN117174563A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310604937.9
申请日：2023-05-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 提供一种能够抑制等离子体处理腔室内的压力变动的技术。本公开涉及的等离子体处理装置具备：腔室；向腔室内供给处理气体的气体供给部；在腔室内生成由处理气体生成等离子体的源射频信号的电源；事先存储作为源射频信号的参数的设定值的源设定值的存储部；与腔室连接的压力调节阀，构成为调节腔室的内部压力；计算压力调节阀的开度的开度计算部，开度基于源设定值计算；以及基于计算的开度控制压力调节阀的开度的开度控制部。还提供一种等离子体处理方法、压力阀控制装置、压力阀控制方法以及压力调节系统。
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