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公开(公告)号：CN116895505A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310254236.7
申请日：2023-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其包括具有喷淋板和冷却板的喷淋头，在该基片处理装置中，抑制冷却板的翘曲，防止或减轻喷淋板的破损。基片处理装置包括：等离子体处理腔室；基片支承部，其设置在上述等离子体处理腔室内，能够支承基片；和与上述基片支承部相对的喷淋头，上述喷淋头具有：喷淋板，其形成有释放气体的气体释放口；冷却板，其保持上述喷淋板，形成有供给致冷剂的致冷剂流路和气体供给流路；以及多个气体扩散室，其形成在上述喷淋板与上述冷却板之间，分别与上述气体释放口和气体供给流路连通，上述致冷剂流路在俯视时至少一部分与上述喷淋板和上述冷却板之间的传热面重叠地配置。
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