公开(公告)号：CN110783226B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN201910670107.X

申请日：2019-07-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 日高章一郎 ,  池田朋生 ,  碛本荣一 ,  岩永和也 ,  林圣人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够抑制覆盖凹凸图案的液膜干燥时凹凸图案崩溃的技术。本发明的基片处理装置包括：以基片的形成有凹凸图案的面向上的方式保持上述基片的基片保持部；通过对被上述基片保持部保持的上述基片供给处理液，在上述凹凸图案的凹部形成液膜的液体供给单元；对被上述基片保持部保持的上述基片或上述液膜照射用于加热上述液膜的激光光线的加热单元；和控制上述加热单元的加热控制部，上述加热控制部通过从上述加热单元对上述基片或上述液膜照射上述激光光线，使上述凹部的深度方向整体从上述处理液露出。

公开(公告)号：CN110783226A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201910670107.X

申请日：2019-07-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 日高章一郎 ,  池田朋生 ,  碛本荣一 ,  岩永和也 ,  林圣人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够抑制覆盖凹凸图案的液膜干燥时凹凸图案崩溃的技术。本发明的基片处理装置包括：以基片的形成有凹凸图案的面向上的方式保持上述基片的基片保持部；通过对被上述基片保持部保持的上述基片供给处理液，在上述凹凸图案的凹部形成液膜的液体供给单元；对被上述基片保持部保持的上述基片或上述液膜照射用于加热上述液膜的激光光线的加热单元；和控制上述加热单元的加热控制部，上述加热控制部通过从上述加热单元对上述基片或上述液膜照射上述激光光线，使上述凹部的深度方向整体从上述处理液露出。

公开(公告)号：CN110783228A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201910676152.6

申请日：2019-07-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田朋生 ,  日高章一郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：基板保持部，其以使基板的形成有凹凸图案的面朝上的方式保持基板；液供给单元，其通过从被基板保持部保持的基板的上方对该基板供给处理液来形成覆盖凹凸图案的凹部的液膜；加热单元，其具有对液膜局部地进行加热的加热部和使由加热部加热的加热位置移动的加热位置移动部；以及加热控制部，其控制加热单元，其中，加热控制部一边使加热位置在铅垂方向上观察时与位于露出部与覆盖部之间的边界部重叠，一边使加热位置向使露出部扩大的方向即边界部的移动方向移动，该露出部是凹部的深度方向上的整体从处理液露出的部分，该覆盖部是凹部的深度方向上的整体被处理液填满的部分。

公开(公告)号：CN110783228B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN201910676152.6

申请日：2019-07-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田朋生 ,  日高章一郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：基板保持部，其以使基板的形成有凹凸图案的面朝上的方式保持基板；液供给单元，其通过从被基板保持部保持的基板的上方对该基板供给处理液来形成覆盖凹凸图案的凹部的液膜；加热单元，其具有对液膜局部地进行加热的加热部和使由加热部加热的加热位置移动的加热位置移动部；以及加热控制部，其控制加热单元，其中，加热控制部一边使加热位置在铅垂方向上观察时与位于露出部与覆盖部之间的边界部重叠，一边使加热位置向使露出部扩大的方向即边界部的移动方向移动，该露出部是凹部的深度方向上的整体从处理液露出的部分，该覆盖部是凹部的深度方向上的整体被处理液填满的部分。