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公开(公告)号：CN114174552A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080055400.6
申请日：2020-07-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的成膜装置包括：处理容器；在处理容器内保持基片的基片保持部；配置于基片保持部的上方的阴极单元；和对处理容器内导入等离子体生成气体的气体导入机构。阴极单元包括：靶材；对靶材供给电功率的电源；设置于靶材的背面侧的磁体；和驱动磁体的磁体驱动部，磁体驱动部具有使磁体沿着靶材摆动的摆动驱动部和垂直驱动部，该垂直驱动部以独立于由摆动驱动部进行的驱动的方式在与靶材的主面垂直的方向上驱动磁体，通过磁控溅射使溅射颗粒沉积在基片上。
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