公开(公告)号：CN101331588A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200680046966.2

申请日：2006-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  松崎和爱 ,  田中崇 ,  岩下光秋 ,  宗像瑞惠

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05C15/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05C11/06 ,  B05C11/08 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0486 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。

公开(公告)号：CN100595887C

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200680046966.2

申请日：2006-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  松崎和爱 ,  田中崇 ,  岩下光秋 ,  宗像瑞惠

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05C15/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05C11/06 ,  B05C11/08 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0486 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。