公开(公告)号：CN118366888A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410023847.5

申请日：2024-01-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梅崎翔太 ,  林田贵大 ,  中岛干雄 ,  安永尚史

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明提供一种能够降低基片间的处理偏差的技术。本公开的一个方式的基片处理装置包括：单位模块，其包括用于在基片的上表面形成液膜的多个液膜形成单元和用于将所述液膜置换为超临界流体而使所述基片干燥的干燥单元；以及输送模块，其设置于多个所述液膜形成单元与所述干燥单元之间，所述输送模块具有在多个所述液膜形成单元与所述干燥单元之间输送所述基片的输送装置，在多个所述液膜形成单元的每一个与所述干燥单元之间所述基片的输送路径的长度相等。

公开(公告)号：CN118366890A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410040683.7

申请日：2024-01-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梅崎翔太 ,  林田贵大 ,  中岛幹雄 ,  安永尚史

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法，能够提高干燥单元的维护性。基板处理装置具备干燥单元，所述干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有：压力容器，在该压力容器的内部形成有用于对所述基板进行干燥的干燥室；以及盖体，其用于将所述压力容器的开口封闭。所述基板处理装置具备支承构件，所述支承构件以使所述盖体能够沿与所述开口平行的第一方向及第二方向这两个方向移动的方式支承所述盖体，所述第二方向是与所述第一方向相反的方向。