公开(公告)号：CN109817562A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201811399185.2

申请日：2018-11-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤耕一 ,  山崎英亮 ,  中込素子 ,  冈纯也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供一种基板载置台，能够抑制电弧放电和微粒的产生。一个实施方式的基板载置台被使用于在处理容器内对基板实施等离子体处理的等离子体处理装置，该基板载置台具有：基板载置部，其被加工成镜面，用于载置所述基板；边缘部，其位于所述基板载置部的周围，被加工成凹凸形状。

公开(公告)号：CN109817562B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201811399185.2

申请日：2018-11-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤耕一 ,  山崎英亮 ,  中込素子 ,  冈纯也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供一种基板载置台，能够抑制电弧放电和微粒的产生。一个实施方式的基板载置台被使用于在处理容器内对基板实施等离子体处理的等离子体处理装置，该基板载置台具有：基板载置部，其被加工成镜面，用于载置所述基板；边缘部，其位于所述基板载置部的周围，被加工成凹凸形状。