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公开(公告)号：CN103209757A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180054593.4
申请日：2011-11-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B01D67/0023 , B01D61/025 , B01D67/0034 , B01D67/0062 , B01D69/10 , B01D71/022 , B01D71/024 , B01D2323/225 , B01D2323/24 , B01D2323/283 , B01D2325/02 , B01D2325/08 , B01D2325/48 , Y10T156/10
Abstract: 本发明提供能方便地得到自来水或淡水的过滤用过滤器的制造方法。对于由硅构成的基板1，使用形成在该基板1的表面上并具有使该表面的一部分露出的多个开口部的掩膜进行蚀刻，在基板1上形成多个直径约100nm的圆孔2，使氧化硅膜3沉积在形成的圆孔2的内表面上，调整因氧化硅膜3而缩小的圆孔2的开口部附近的最小直径部4中的直径D1至1nm～100nm。
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公开(公告)号：CN1429404A
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：CN01809509.7
申请日：2001-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32458
Abstract: 本发明提供一种使维护容易进行、可减轻操作者负担的处理装置及其维护方法。构成蚀刻装置(100)的处理室(102)的顶板部的上部电极单元(106)由包含上部电极(130)的处理室(102)侧的下部组件(128)、和包含导电体(144)的电压供给侧的上部组件(128)构成。解除锁定机构(156)，通过升降机构(164)单独使上部组件(126)上升并取出后，进行上部组件(126)和/或下部组件(128)的维护。将锁定机构(156)锁定，通过升降机构(164)使上部及下部组件(126、128)一体上升，取出后，对处理室(102)内进行维护。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103153878A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180049164.8
申请日：2011-10-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C02F1/02 , B01J3/006 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/121 , B01J19/1812 , B01J19/2415 , B01J2219/00153 , B01J2219/0877 , C02F1/30 , C02F1/441 , C02F11/086 , C02F2101/30 , C02F2301/066 , C02F2303/08
Abstract: 提供一种水处理装置，能够通过分解被处理水中含有的有机物来减轻下游的过滤装置的载荷，而且能够避免配管等的腐蚀。水处理装置12具有：将含有有机物的被处理水15a加压至规定的压力的大口径流路22、小口径流路23及加压泵24；和向加压后的被处理水15a照射激光27而将其加热至规定温度的激光光源25及聚光透镜26，利用聚光透镜26将从激光光源25照射的激光27聚光在加压后的被处理水15a流动的小口径流路23的、与该流路内的流路壁分离的区域29，对该区域29内的被处理水15a加热而生成超临界水或者亚临界水来分解被处理水15a中的有机物。
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公开(公告)号：CN1199247C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN01809509.7
申请日：2001-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32458
Abstract: 本发明提供一种使维护容易进行、可减轻操作者负担的处理装置及其维护方法。构成蚀刻装置(100)的处理室(102)的顶板部的上部电极单元(106)由包含上部电极(130)的处理室(102)侧的下部组件(128)、和包含导电体(144)的电压供给侧的上部组件(128)构成。解除锁定机构(156)，通过升降机构(164)单独使上部组件(126)上升并取出后，进行上部组件(126)和/或下部组件(128)的维护。将锁定机构(156)锁定，通过升降机构(164)使上部及下部组件(126、128)一体上升，取出后，对处理室(102)内进行维护。
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公开(公告)号：CN103153878B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201180049164.8
申请日：2011-10-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C02F1/02 , B01J3/006 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/121 , B01J19/1812 , B01J19/2415 , B01J2219/00153 , B01J2219/0877 , C02F1/30 , C02F1/441 , C02F11/086 , C02F2101/30 , C02F2301/066 , C02F2303/08
Abstract: 本发明提供一种水处理装置，能够通过分解被处理水中含有的有机物来减轻下游的过滤装置的载荷，而且能够避免配管等的腐蚀。水处理装置12具有：将含有有机物的被处理水15a加压至规定的压力的大口径流路22、小口径流路23及加压泵24；和向加压后的被处理水15a照射激光27而将其加热至规定温度的激光光源25及聚光透镜26，利用聚光透镜26将从激光光源25照射的激光27聚光在加压后的被处理水15a流动的小口径流路23的、与该流路内的流路壁分离的区域29，对该区域29内的被处理水15a加热而生成超临界水或者亚临界水来分解被处理水15a中的有机物。
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公开(公告)号：CN1327493C
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200410095596.4
申请日：2001-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/00 , H05H1/00
CPC classification number: H01J37/32458
Abstract: 本发明提供一种处理装置部件的装配机构，具备可以使构成处理室的顶板部的上部电极组件和电极组件升降的升降机构，其特征在于：上部电极单元由上部组件和下部组件可分离、合体地构成，下部组件具有圆柱状电极组件和可嵌合于圆柱状电极组件的周围的环状构件，在圆柱状电极组件的外周面或环状构件的内周面的任一方上形成多个突起，而在任意另外一方上形成与突起相对应的多条槽，槽是由为了应使圆柱状电极组件和环状构件进行嵌合将突起导向嵌合方向而向嵌合方向延伸的第1槽、和为了应使一旦嵌合的圆柱状电极组件和环状组件相对旋转对突起进行导向而向旋转方向延伸的第2槽构成，而且，第2槽随着加深向嵌合方向倾斜。
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公开(公告)号：CN1630041A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN200410095596.4
申请日：2001-05-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/00 , H05H1/00
CPC classification number: H01J37/32458
Abstract: 本发明提供一种处理装置部件的装配机构，具备可以使构成处理室的顶板部的上部电极组件和电极组件升降的升降机构，其特征在于：上部电极单元由上部组件和下部组件可分离、合体地构成，下部组件具有圆柱状电极组件和可嵌合于圆柱状电极组件的周围的环状构件，在圆柱状电极组件的外周面或环状构件的内周面的任一方上形成多个突起，而在任意另外一方上形成与突起相对应的多条槽，槽是由为了应使圆柱状电极组件和环状构件进行嵌合将突起导向嵌合方向而向嵌合方向延伸的第1槽、和为了应使一旦嵌合的圆柱状电极组件和环状组件相对旋转对突起进行导向而向旋转方向延伸的第2槽构成，而且，第2槽随着加深向嵌合方向倾斜。
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