公开(公告)号：CN114649246A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202111499716.7

申请日：2021-12-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 新藤健弘 ,  高桥明 ,  堀内孝 ,  儿玉俊昭

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法，能够调节叉形部件的倾斜。基片输送装置包括：末端执行器，其具有保持基片的叉形部件和保持叉形部件的根端部的腕部；以及臂，其能够安装末端执行器并具有使叉形部件移动的机构，在基片输送装置的保持叉形部件的根端部的腕部与臂之间具有调节叉形部件的倾斜的倾斜调节机构，该倾斜调节机构包括：用于从下表面侧支承腕部的3个支承销；使这些支承销的上端的高度位置彼此相对地变化的高度调节部；和被设置成将叉形部件向支承销一侧牵引的牵引销。

公开(公告)号：CN114664692A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111524734.6

申请日：2021-12-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 阪上博充 ,  儿玉俊昭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供基片搬运装置、基片处理系统和基片处理方法，在减压气氛下搬运基片的基片搬运装置中，能够始终监视基片的位置。本发明的基片搬运装置在减压气氛下对基片处理装置搬运基片，包括：基片保持部，其用于保持所述基片；和基片测量部，其被设置于所述基片保持部，对所述基片相对于该基片保持部的位置进行测量。