等离子体处理方法和等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN101809720A

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200880109006.5

    申请日:2008-09-01

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置,能够在通过电负性气体进行等离子体处理时,控制等离子体中的离子密度,比现有技术进一步提高等离子体处理的面内均匀性。将作为电负性气体的处理气体从处理气体源(170)导入到处理室(102)内,并且将与该处理气体相比电子附着系数大的电负性气体作为添加气体从添加气体源(180)导入来形成等离子体,此时,通过调整添加气体相对于处理气体的流量来控制所述等离子体中的离子密度。

    等离子体处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101720503A

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200980000455.0

    申请日:2009-02-26

    CPC classification number: H05H1/0081 H01J37/32935

    Abstract: 本发明涉及等离子体处理装置。等离子体监测装置(100)具备测定部(101)和与该测定部(101)连接的同轴电缆(102)。同轴电缆(102)的一端被插入到处理室(2)内的等离子体生成区域内。同轴电缆(102)的前端部分为探针,该部分是芯线露出的状态。测定部(101)检测由同轴电缆(102)的探针部分检测出的等离子体中存在的电磁波的频率分布,并显示该检测出的频率分布。

    等离子体处理装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101720503B

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN200980000455.0

    申请日:2009-02-26

    CPC classification number: H05H1/0081 H01J37/32935

    Abstract: 本发明涉及等离子体处理装置。等离子体监测装置(100)具备测定部(101)和与该测定部(101)连接的同轴电缆(102)。同轴电缆(102)的一端被插入到处理室(2)内的等离子体生成区域内。同轴电缆(102)的前端部分为探针,该部分是芯线露出的状态。测定部(101)检测由同轴电缆(102)的探针部分检测出的等离子体中存在的电磁波的频率分布,并显示该检测出的频率分布。

    等离子体测定方法、等离子体测定装置和存储介质

    公开(公告)号:CN101821837A

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN200980100651.5

    申请日:2009-01-30

    CPC classification number: H01J37/3244 H01J37/32449 H01J37/32935

    Abstract: 本发明提供等离子体测定方法、等离子体测定装置和存储介质,其能够确定电正性等离子体区域与电负性等离子体区域的边界的处理条件。在真空容器内,阶段性地改变从包括电负性气体和电正性气体的流量比、上述真空容器内的压力、以及使上述电负性气体和电正性气体等离子体化时的能量的大小的处理条件的参数中选择的参数,基于至少三种以上的处理条件生成等离子体。接着,对位于该等离子体中的朗缪尔探针施加电压,按各个处理条件取得表示该施加的电压与流过该探针的电流的关系的电流电压曲线。然后,基于所取得的上述电流电压曲线组求取电正性等离子体区域和电负性等离子体区域的边界的处理条件。

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