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发明公开
蚀刻处理装置、系统、方法、分析装置以及分析程序审中-实审

公开(公告)号：CN117059515A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202310471710.1

申请日：2023-04-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊五泽凉 , 笹川大成

IPC: H01L21/67 , H01L21/306 , H01L21/3065

Abstract: 本发明提供一种蚀刻处理装置、系统、方法、分析装置以及分析程序。蚀刻处理装置具有：保存部，其保存在根据执行蚀刻处理的特定的步骤时的效果的差异将执行所述特定的步骤时获取到的各处理条件分类为多个组并针对每个组进行了学习处理的情况下通过各学习处理生成的各组的学习完毕模型；更新部，在使用与特定的组对应的处理条件中包括的设定数据对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下的效果不等同于与所述特定的组对应的效果的情况下，所述更新部更新所述特定的组的学习完毕模型；以及搜索部，其使用更新后的所述学习完毕模型来搜索在对测试用晶圆执行了所述特定的步骤的情况下能够得到与所述特定的组对应的效果的设定数据。

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