接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件

    公开(公告)号:CN105793804A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201480067563.0

    申请日:2014-12-09

    Abstract: 本发明的目的在于,提供形成有微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法,所述微细图案作为ITO的替代而发挥功能,不会伴有敏感电极的透视、光反射之类的问题,且抑制了其与导电布线之间的断线、导通不良。本发明提供接触式传感器用构件的制造方法,其具备如下工序:导电涂布膜形成工序:对于被区分成显示区域和装饰区域的基板,在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂,从而得到导电涂布膜;以及,导电图案形成工序:对上述显示区域上的上述导电涂布膜和上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影,进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光,从而得到导电图案,上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm,上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。

    接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件

    公开(公告)号:CN111665996A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010609414.X

    申请日:2014-12-09

    Abstract: 本发明涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。本发明目的是提供形成微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法,该微细图案作为ITO的替代发挥功能,不会伴有敏感电极的透视、光反射等的问题,且抑制了与导电布线间的断线、导通不良。本发明提供接触式传感器用构件的制造方法,其具备:导电涂布膜形成工序:对于被区分成显示区域和装饰区域的基板,在显示区域和装饰区域上涂布感光性导电糊剂,得到导电涂布膜;和导电图案形成工序:对显示区域上的导电涂布膜和装饰区域上的导电涂布膜一并曝光和显影,进而以100~250℃加热或照射氙闪光管的光,得到导电图案,显示区域上的导电图案线宽为2~6μm,装饰区域上的导电图案线宽为7~100μm。

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