公开(公告)号：CN1146623C

公开(公告)日：2004-04-21

申请号：CN99124888.0

申请日：1999-11-17

Applicant: 不二见株式会社 ,  东邦化学工业株式会社

Inventor： 儿玉一志 ,  大胁寿树 ,  谷克己 ,  横道典孝 ,  德植孝 ,  藤冈则夫 ,  佐山哲也

IPC: C08J5/14 ,  C08L25/06

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 1种包含(a)水，(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物，(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料，在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物；1种包含以上(a)～(c)组分，在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好，并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。

公开(公告)号：CN1253963A

公开(公告)日：2000-05-24

申请号：CN99124888.0

申请日：1999-11-17

Applicant: 不二见株式会社 ,  东邦化学工业株式会社

Inventor： 儿玉一志 ,  大胁寿树 ,  谷克己 ,  横道典孝 ,  德植孝 ,  藤冈则夫 ,  佐山哲也

IPC: C08J5/14 ,  C08L25/06

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 一种包含(a)水,(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物,(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物,(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料,在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物;1种包含以上(a)～(c)组分,在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好,并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。

公开(公告)号：CN1285686C

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN02157402.2

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/18

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸盐和磷化合物中的一种组分，或者选自磷酸、磷酸盐和磷化合物中的两种组分，(B)二氧化硅和(C)水，其特征在于：当(A)化合物只含有膦酸时，不含(D)硝酸铝。

公开(公告)号：CN1113956C

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN97123014.5

申请日：1997-11-26

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 大胁寿树

IPC: C11D7/60 ,  G11B23/50

CPC classification number: G11B23/505 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明公开一种存储硬盘的清洗组合物，它含有水和选自含氧酸、含氧酸盐和氯化物的添加剂。

公开(公告)号：CN1427055A

公开(公告)日：2003-07-02

申请号：CN02157402.2

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/18

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸盐和磷化合物中的一种组分，或者选自磷酸、磷酸盐和磷化合物中的两种组分，(B)二氧化硅和(C)水，其特征在于：当(A)化合物只含有膦酸时，不含(D)硝酸铝。

公开(公告)号：CN1183467A

公开(公告)日：1998-06-03

申请号：CN97123014.5

申请日：1997-11-26

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 大胁寿树

IPC: C11D7/60 ,  G11B23/50

CPC classification number: G11B23/505 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明公开一种存储硬盘的清洗组合物,它含有水和选自含氧酸、含氧酸盐和氯化物的添加剂。

公开(公告)号：CN1854224A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610084745.6

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸、磷酸盐和焦磷酸、膦酸、次膦酸、羟亚乙基二膦酸、次氮基三(亚甲基膦酸)、膦酰基丁烷三羧酸及其盐中的至少一种组分，(B)胶态二氧化硅，(C)水和(E)乙二胺四乙酸二铵铁。