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公开(公告)号：CN117517366A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311471710.8
申请日：2023-11-07
Applicant: 上海科技大学
IPC: G01N23/20008 , G01N23/207
Abstract: 本发明提供一种X射线光管出射光源点在线校准装置及方法，应用于实验室X射线光谱仪中；包括X射线光管、X射线光管位置调节组件、探测器、探测器位置调节组件、底部支撑板、以及控制单元，所述X射线光管设置在X射线光管位置调节组件上，所述X射线光管位置调节组件设置在底部支撑板上；所述探测器设置在探测器位置调节组件上，所述探测器位置调节组件设置在底部支撑板上。本发明可以实现在线对X射线光管出射光源点的校准。完成校准后也无需将X射线光管拆卸并安装到X射线光谱仪上，规避了人工安装调试等误差，提高了X射线光谱仪的总能量分辨率与光谱信号的准确性。
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公开(公告)号：CN117388299A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311314347.9
申请日：2023-10-10
Applicant: 上海科技大学
IPC: G01N23/223 , G05B19/05 , G06F8/34 , G06F8/38
Abstract: 本申请提供一种光谱仪监测与控制方法、平台、系统及平台搭建方法，通过根据中能X射线光谱仪装置的目标监控需求搭建的基于PLC和Python的光谱仪监测与控制平台，对中能X射线光谱仪装置进行实时监测与控制。本申请中的PLC和Python的光谱仪监测与控制平台，实现了对中能X射线光谱仪的集成化自动监测与控制，并通过PLC保障了工业级的监控稳定性和可靠性，以及通过Python满足了科研级的监控灵活性和拓展性。
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公开(公告)号：CN116787621A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310846554.2
申请日：2023-07-11
Applicant: 上海科技大学
Abstract: 本发明涉及X射线光学元件制备技术领域，具体涉及一种基于压力监测的弯晶制备装置及其使用方法。一种基于压力监测的弯晶制备装置，包括下壳体、若干压力传感器、支架、第一基底、第二基底、上壳体和若干压力调节部，所述下壳体内设有空腔，且所述下壳体顶部敞开，所述压力传感器设于所述空腔内，所述支架设于所述传感器远离所述下壳体底部的一侧，所述第一基底、第二基底和上壳体沿着远离所述下壳体的方向依次设于所述支架上，所述上壳体和所述下壳体通过所述压力调节部相连。本发明可以解决弯晶制备过程中，压力大小及压力分布的均匀性无法精确测量和控制的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115711896A
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202110968069.3
申请日：2021-08-23
Applicant: 上海科技大学
IPC: G01N23/085
Abstract: 本发明的基于优化采集时间的X射线吸收谱数据处理系统、方法及终端，通过引入时间控制系统控制强度探测器在每个能量点下的信号采集时间，根据XAFS数据不同能量点探测强度的需要，程序控制采集时间，并将时间信号反馈给信号处理系统，做最终的吸收谱数据归一化处理，将大大提高XAFS数据采集效率；并且在吸收谱信号采集效率的提升的同时也降低了X射线吸收谱实验对入射光强度的需求，使得在实验室使用低通量X射线光源也可以实现吸收谱测量，还降低了实验成本，扩大了X射线吸收谱实验的应用场景。本发明还可以在吸收边附近适当降低采集时间，而在远边处提高采谱需要的时间以增大探测器计数，并通过优化采集时间函数可以进一步提高XAFS数据的信噪比。
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公开(公告)号：CN115711896B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202110968069.3
申请日：2021-08-23
Applicant: 上海科技大学
IPC: G01N23/085
Abstract: 本发明的基于优化采集时间的X射线吸收谱数据处理系统、方法及终端，通过引入时间控制系统控制强度探测器在每个能量点下的信号采集时间，根据XAFS数据不同能量点探测强度的需要，程序控制采集时间，并将时间信号反馈给信号处理系统，做最终的吸收谱数据归一化处理，将大大提高XAFS数据采集效率；并且在吸收谱信号采集效率的提升的同时也降低了X射线吸收谱实验对入射光强度的需求，使得在实验室使用低通量X射线光源也可以实现吸收谱测量，还降低了实验成本，扩大了X射线吸收谱实验的应用场景。本发明还可以在吸收边附近适当降低采集时间，而在远边处提高采谱需要的时间以增大探测器计数，并通过优化采集时间函数可以进一步提高XAFS数据的信噪比。
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公开(公告)号：CN117388295A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311320945.7
申请日：2023-10-12
Applicant: 上海科技大学
IPC: G01N23/207 , G01N23/20008 , G01N23/20025
Abstract: 本发明提供了一种弯晶检测装置，包括真空腔、X射线源、待测弯晶、第一探测器、第二探测器、平晶单色器和运动调节机构；X射线源产生的X射线光束入射至待测弯晶；平晶单色器用于对待测弯晶的衍射光束进行准直和单色化；运动调节机构用于驱动待测弯晶、第一探测器、第二探测器、平晶单色器各自独立地沿多个方向平移和/或旋转；待测弯晶、平晶单色器和第一探测器均设置在真空腔内。本发明还提供了一种前述弯晶检测装置的使用方法。本发明提供了一套完整的面向X射线光谱仪应用的弯晶检测装置，可以实现弯晶晶面面形、弯晶聚焦性能、弯晶能量分辨率三种质量检测项目，满足了在实际应用前或研发过程中所需要进行的弯晶质量检测需求。
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公开(公告)号：CN220446846U
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202321813735.7
申请日：2023-07-11
Applicant: 上海科技大学
Abstract: 本实用新型涉及X射线光学元件制备技术领域，具体涉及一种基于压力监测的弯晶制备装置。一种基于压力监测的弯晶制备装置，包括下壳体、若干压力传感器、支架、第一基底、第二基底、上壳体和若干压力调节部，所述下壳体内设有空腔，且所述下壳体顶部敞开，所述压力传感器设于所述空腔内，所述支架设于所述传感器远离所述下壳体底部的一侧，所述第一基底、第二基底和上壳体沿着远离所述下壳体的方向依次设于所述支架上，所述上壳体和所述下壳体通过所述压力调节部相连。本实用新型可以解决弯晶制备过程中，压力大小及压力分布的均匀性无法精确测量和控制的问题。
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