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公开(公告)号：CN116787621A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310846554.2
申请日：2023-07-11
Applicant: 上海科技大学
Abstract: 本发明涉及X射线光学元件制备技术领域，具体涉及一种基于压力监测的弯晶制备装置及其使用方法。一种基于压力监测的弯晶制备装置，包括下壳体、若干压力传感器、支架、第一基底、第二基底、上壳体和若干压力调节部，所述下壳体内设有空腔，且所述下壳体顶部敞开，所述压力传感器设于所述空腔内，所述支架设于所述传感器远离所述下壳体底部的一侧，所述第一基底、第二基底和上壳体沿着远离所述下壳体的方向依次设于所述支架上，所述上壳体和所述下壳体通过所述压力调节部相连。本发明可以解决弯晶制备过程中，压力大小及压力分布的均匀性无法精确测量和控制的问题。
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公开(公告)号：CN220446846U
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202321813735.7
申请日：2023-07-11
Applicant: 上海科技大学
Abstract: 本实用新型涉及X射线光学元件制备技术领域，具体涉及一种基于压力监测的弯晶制备装置。一种基于压力监测的弯晶制备装置，包括下壳体、若干压力传感器、支架、第一基底、第二基底、上壳体和若干压力调节部，所述下壳体内设有空腔，且所述下壳体顶部敞开，所述压力传感器设于所述空腔内，所述支架设于所述传感器远离所述下壳体底部的一侧，所述第一基底、第二基底和上壳体沿着远离所述下壳体的方向依次设于所述支架上，所述上壳体和所述下壳体通过所述压力调节部相连。本实用新型可以解决弯晶制备过程中，压力大小及压力分布的均匀性无法精确测量和控制的问题。
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