基于两次外延的雪崩光电二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN119108451A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202310682739.4

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本发明提供一种基于两次外延的雪崩光电二极管及其制备方法,通过两次外延工艺实现所有P型离子及N型离子的注入均通过表面离子注入的形式实现,不需要较深离子注入需求,避免高能离子注入机的使用,降低制备难度、减小制造成本;另外,采用该制备方法制备的雪崩光电二极管,通过在第一P型外延层表面形成P+掺杂层,且其掺杂浓度相对于第一P型外延层的掺杂浓度来说较大,可以调节雪崩光电二极管内部的电场分布,辅助第二阳极欧姆接触电极实现对第一P型外延层及第二P型外延层的全耗尽,即通过P+掺杂层可调节第一、第二P型外延层的全耗尽状态,使其可在较低电压下耗尽,即降低耗尽电压,从而减少扩散电流,提高器件截止频率。

    雪崩光电二极管及制备方法、阵列及其测距仪

    公开(公告)号:CN119108442A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202310684520.8

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本发明提供一种雪崩光电二极管及其制备方法、雪崩光电二极管阵列及其测距仪,该雪崩光电二极管包括:第一阳极欧姆接触电极、P+掺杂层、P型衬底、P型外延层、P阱、N阱、N型保护环、P阱型欧姆接触环及第二阳极欧姆接触电极和阴极欧姆接触电极,所述P+掺杂层的掺杂浓度大于P型外延层的掺杂浓度。通过在作为光吸收层的P型外延层表面形成P+掺杂层,且其掺杂浓度相对于P型外延层的掺杂浓度来说较大,雪崩光电二极管辅助第二阳极欧姆接触电极实现对P型外延层的全耗尽,即通过P+掺杂层可调节P型外延层的全耗尽状态,使其可在较低电压下耗尽,即降低耗尽电压,从而减少扩散电流,提高器件的截止频率。

    垂直型原位放大电子探测器及电子探测装置

    公开(公告)号:CN116960137A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202210412750.4

    申请日:2022-04-19

    Abstract: 本发明提供一种垂直型原位放大电子探测器及电子探测装置,电子探测器包括:第一半导体层;源区和漏区,间隔设置于第一半导体层的第一面的表层;底部掺杂区,形成于第一半导体层的第二面的表层;介质层,设置于第一半导体层的第一面上;第二半导体层,设置于介质层上,第二半导体层的第二面与介质层相接;第一掺杂区,间隔设置于第二半导体层的第二面的表层;第二掺杂区,设置于第二半导体层的第一面的表层,第二掺杂区和第一掺杂区具有相反的导电类型。本发明将P‑i‑N型吸收区和电子信号放大的晶体管结构进行集成,实现了一种具有原位放大功能的新型电子探测器,可以大大提高电子探测器的响应速度和灵敏度。

Patent Agency Ranking