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公开(公告)号：CN116067620A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202111272613.7
申请日：2021-10-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种承板台、调平方法及显示器基板检测装置，其属于检测技术领域，承板台包括支承框架、玻璃基板和调平组件，玻璃基板包括上下间隔设置的上玻璃基板和下玻璃基板，下玻璃基板与支承框架固定连接，调平组件包括调平螺母、球面垫片和锁紧螺钉，调平螺母与下玻璃基板螺纹连接，调平螺母的顶端开设有方形的调节孔；球面垫片夹设于调平螺母与上玻璃基板之间；锁紧螺钉穿设于球面垫片和调平螺母，锁紧螺钉至少能够锁紧上玻璃基板和下玻璃基板。显示器基板检测装置包括上述承板台。调平时，拆卸锁紧螺钉，将扳手的一端插入调节孔中，转动扳手，即可带动调平螺母转动，进而调节上玻璃基板的高低，调节方便，效率高。
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公开(公告)号：CN113126444B
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN201911423910.X
申请日：2019-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种垂向支撑组件、垂向支撑装置以及光刻机，包括：补偿磁块组以及调节磁块组，所述补偿磁块组包括第一补偿磁块与第二补偿磁块，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块的充磁方向相反，所述第一补偿磁块沿垂向间隔设置于所述第二补偿磁块的上方；所述调节磁块组用以对所述补偿磁块组施加调节磁场；所述补偿磁块组用于承载垂向的且在预设范围内的作用力，在所述调节磁场的调节下，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块之间的间距与所述作用力呈线性关系。如此配置，解决了补偿磁块组在一定范围内输出的重力补偿力不稳定，不成线性关系的问题，为掩膜设备实现垂向大闭环做准备。
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公开(公告)号：CN113741151A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202010479847.8
申请日：2020-05-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机。所述掩膜板整形装置包括：透明盖板、支撑固定框、承板台、真空吸附气动系统、恒压气动控制系统以及可控抽真空系统；其中，透明盖板与支撑固定框连接，且覆盖支撑固定框的中空区域；透明盖板和支撑固定框与待整形掩膜板构成密闭腔；承板台用于承载待整形掩膜板的边框区，并吸附固定支撑固定框；真空吸附气动系统用于为承板台提供吸附力；恒压气动控制系统用于维持密闭腔内的气压恒定；可控抽真空系统用于实现密闭腔内流量可控的抽真空。本发明实施例提供的技术方案，避免真空过抽现象发生的同时，保证了密闭腔能够以较短的时间建立目标真空，进而实现了对待整形掩膜板的有效整形。
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公开(公告)号：CN112846604A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201911183833.5
申请日：2019-11-27
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种张网装置及张网方法，包括两对定位夹持结构及至少一对形变夹持结构，每对定位夹持结构和每对形变夹持结构均设置于支撑框架相对的第一侧和第二侧，第一侧和第二侧上，所述形变夹持结构位于两个定位夹持结构之间；所述定位夹持结构及所述形变夹持结构均能够沿水平方向移动，且所述定位夹持结构及所述形变夹持结构上均设置有位置测量单元。本发明通过两对定位夹持结构实现支撑框架的定位夹持，至少一对形变夹持结构实现形变，结构简单紧凑，同时兼容压紧和精对准的功能，在保证精度的同时可以节约成本。
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公开(公告)号：CN110657746A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201810698742.4
申请日：2018-06-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种分体式精密测量装置，包括被测物承载单元、检测单元及检测承载单元。检测承载单元用于承载检测单元，检测单元可在检测承载单元上沿X方向运动；被测物承载单元和检测承载单元可发生沿Y方向的相对运动；位移测量单元用于测量被测物承载单元和检测单元在X方向的相对位移，以及被测物承载单元和检测承载单元在Y方向的相对位移；被测物承载单元、检测承载单元和位移测量单元分别安装在第一安装框架、第二安装框架和第三安装框架上。本发明将被测物承载单元、检测承载单元和位移测量单元分别安装在分离的第一安装框架、第二安装框架和第三安装框架上，避免被测物承载单元或检测承载单元的运动对位移测量单元测量精度的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112750712B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201911063317.9
申请日：2019-10-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种测量装置，包括：基板承载单元，用于承载基板；测量承载单元，包括测量框架和测量滑块，测量框架包括设置在基板相对两侧的侧墙和设置在侧墙上并沿侧墙移动的横梁，测量滑块套设在横梁上并沿横梁移动；光学测量单元，设置在测量滑块上，用于测量基板上的标记；防跌落单元，设置在所述基板承载单元上，用于基板交接时对基板进行防跌落保护。相比于传统的桥式测量装置，本发明提供的测量装置适用于大尺寸、大质量基板的测量，且节约了成本和装置的占地面积，提高了测量精度。进一步的，通过设置防跌落单元，避免基板在交接过程中，在交接高位或加速下降时高速跌落损坏承载台。
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公开(公告)号：CN111719117B
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN201910218353.1
申请日：2019-03-21
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种工件推压机构、张网机和蒸镀系统，所述工件推压机构结构简单，成本低，能够兼容压紧工件及驱动工件水平向运动的功能，减小水平向占用空间。本发明的张网机和蒸镀系统，具有多个所述工件推压机构，能够通过这些工件推压机构的配合，实现掩膜框架的精对准及压紧，有利于降低掩膜版和掩膜框架的结合难度，进而有利于显示产品的质量、精度以及良品率的提高。
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公开(公告)号：CN113126444A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201911423910.X
申请日：2019-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种垂向支撑组件、垂向支撑装置以及光刻机，包括：补偿磁块组以及调节磁块组，所述补偿磁块组包括第一补偿磁块与第二补偿磁块，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块的充磁方向相反，所述第一补偿磁块沿垂向间隔设置于所述第二补偿磁块的上方；所述调节磁块组用以对所述补偿磁块组施加调节磁场；所述补偿磁块组用于承载垂向的且在预设范围内的作用力，在所述调节磁场的调节下，所述第一补偿磁块与所述第二补偿磁块之间的间距与所述作用力呈线性关系。如此配置，解决了补偿磁块组在一定范围内输出的重力补偿力不稳定，不成线性关系的问题，为掩膜设备实现垂向大闭环做准备。
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公开(公告)号：CN111719117A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201910218353.1
申请日：2019-03-21
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种工件推压机构、张网机和蒸镀系统，所述工件推压机构结构简单，成本低，能够兼容压紧工件及驱动工件水平向运动的功能，减小水平向占用空间。本发明的张网机和蒸镀系统，具有多个所述工件推压机构，能够通过这些工件推压机构的配合，实现掩膜框架的精对准及压紧，有利于降低掩膜版和掩膜框架的结合难度，进而有利于显示产品的质量、精度以及良品率的提高。
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公开(公告)号：CN114609869B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202011412052.1
申请日：2020-12-03
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置以及光刻装置的基底调整方法，所述光刻装置包括工件台和辊轮台，所述辊轮台用于传送基底至所述工件台上，所述工件台包括基底调整装置，所述基底调整装置用于调整基底在基底工位上的Rz方向位置，所述基底调整装置包括若干个吸附旋转模块、若干个夹持模块以及若干个驱动模块，当基底发生Rz方向偏移时，所述吸附旋转模块支撑若干个基底，所述夹持模块夹持基底，并带动基底绕所述吸附旋转模块转动，以此可以调整基底在基底工位上的Rz方向位置。
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