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公开(公告)号:CN119351943A
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202411450336.8
申请日:2024-10-17
Applicant: 上海应用技术大学
Abstract: 本发明涉及一种低内应力的硬质TiAlSiN复合涂层及制备方法,所述复合涂层包括依次沉积于基体表面的TiN打底层、AlTiN层和TiAlSiN层,沉积后初次冷却,再使用低能离子轰击涂层,末真空退火后二次冷却。与现有技术相比,本发明内应力较低、保持高硬度的同时还具有良好的韧性,具有优异的摩擦学性能。