一种具有破乳性能的改性PVDF膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114100382B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202111398993.9

    申请日:2021-11-24

    Abstract: 本发明涉及一种具有破乳性能的改性PVDF膜及其制备方法,该改性PVDF膜通过以下方法制备得到:(1)取三羟甲基氨基甲烷分散于水中,调节pH,然后加入多巴胺,反应得到分散液A;(2)取破乳剂加入所得分散液A,反应得到分散液B;(3)取PVDF膜浸泡于所得分散液B中,反应得到目的产物。本发明采用表面改性法制备了改性PVDF膜,首先通过多巴胺合成了聚多巴胺,然后用聚多巴胺与破乳剂反应,得到分散液B,将PVDF膜浸泡于分散液B中,破乳剂通过聚多巴胺附着于PVDF膜的表面,使PVDF膜表面形成一层破乳层,从而对PVDF膜实现破乳改性。与现有技术相比,本发明改性PVDF膜具有良好的破乳性能,制备工艺简单,成本低廉,有利于推广。

    一种具有破乳性能的改性PVDF膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114100382A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202111398993.9

    申请日:2021-11-24

    Abstract: 本发明涉及一种具有破乳性能的改性PVDF膜及其制备方法,该改性PVDF膜通过以下方法制备得到:(1)取三羟甲基氨基甲烷分散于水中,调节pH,然后加入多巴胺,反应得到分散液A;(2)取破乳剂加入所得分散液A,反应得到分散液B;(3)取PVDF膜浸泡于所得分散液B中,反应得到目的产物。本发明采用表面改性法制备了改性PVDF膜,首先通过多巴胺合成了聚多巴胺,然后用聚多巴胺与破乳剂反应,得到分散液B,将PVDF膜浸泡于分散液B中,破乳剂通过聚多巴胺附着于PVDF膜的表面,使PVDF膜表面形成一层破乳层,从而对PVDF膜实现破乳改性。与现有技术相比,本发明改性PVDF膜具有良好的破乳性能,制备工艺简单,成本低廉,有利于推广。

    具有介孔核壳结构的铜CMP用复合微球及其制备方法、化学机械抛光液及其应用

    公开(公告)号:CN116144323A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202211613769.1

    申请日:2022-12-15

    Abstract: 本发明涉及一种具有介孔核壳结构的铜CMP用复合微球及其制备方法、化学机械抛光液及其应用。该复合微球以介孔SiO2为核,CeO2为壳。制备时,先利用模板剂和硅源,通过模板法制备介孔SiO2微球,作为核壳结构的内核;再利用铈源和沉淀剂,分散合成具有介孔核壳结构的铜CMP用SiO2/CeO2复合微球。化学机械抛光液包括具有介孔核壳结构的铜CMP用SiO2/CeO2复合微球、缓蚀剂、氧化剂和络合剂。该抛光液应用于铜化学机械抛光。与现有技术相比,本发明制备的复合微球表面包覆均匀、单分散性好,制备工艺简单,可用于铜片化学机械抛光等领域。

    铜钴硫@NiMn-G-LDH复合电极材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114050057A

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202111270715.5

    申请日:2021-10-29

    Abstract: 本发明涉及一种铜钴硫@NiMn‑G‑LDH复合电极材料及其制备方法与应用,包括将泡沫镍预处理备用;将可溶性铜盐、可溶性钴盐以及尿素溶于去离子水中,搅拌溶解,获得溶液1备用;将可溶性镍盐、可溶性锰盐、葡萄糖和六亚甲基四胺溶于去离子水中,搅拌溶解,获得溶液2备用;将泡沫镍浸泡在溶液1中,加热反应获得铜钴氢氧前驱体;(5)将获得的铜钴氢氧前驱体加入到九水硫化钠的水溶液中浸泡,加热反应获得铜钴硫化物;(6)将铜钴硫化物浸泡在溶液2中,加热反应得到产物。本发明通过三步水热法合成复合电极材料,复合电极材料具有良好的电化学性能,且复合电极材料制备方法简单、环境友好、成本低廉。

    具有介孔核壳结构的铜CMP用复合微球及其制备方法、化学机械抛光液及其应用

    公开(公告)号:CN116144323B

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202211613769.1

    申请日:2022-12-15

    Abstract: 本发明涉及一种具有介孔核壳结构的铜CMP用复合微球及其制备方法、化学机械抛光液及其应用。该复合微球以介孔SiO2为核,CeO2为壳。制备时,先利用模板剂和硅源,通过模板法制备介孔SiO2微球,作为核壳结构的内核;再利用铈源和沉淀剂,分散合成具有介孔核壳结构的铜CMP用SiO2/CeO2复合微球。化学机械抛光液包括具有介孔核壳结构的铜CMP用SiO2/CeO2复合微球、缓蚀剂、氧化剂和络合剂。该抛光液应用于铜化学机械抛光。与现有技术相比,本发明制备的复合微球表面包覆均匀、单分散性好,制备工艺简单,可用于铜片化学机械抛光等领域。

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