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公开(公告)号：CN117029725A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310518456.6
申请日：2023-05-09
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/25
Abstract: 本发明公开了一种相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法，基于多频外差原理，通过后一像素点相位幅值减去当前像素点相位幅值计算展开相位的梯度，找出展开相位中可能存在误差的可疑点，根据误差的幅值判断误差来源并确定误差的起始和终止像素点位置，消除跳变误差并对跳跃点处加以平滑，该方法可判别实际形貌落差与跳变误差，消除阴影部分以外的跳变误差部分，使相位展开后得到的绝对相位更加平整且无跳变，从而使得整幅光栅条纹的相位展开图连续、光滑、无跳变，提高了三维形貌测量结果的精确度及稳定性。
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公开(公告)号：CN117006950A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202311081467.9
申请日：2023-08-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置，包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统，所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动，所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器，所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统，由信号处理系统对干涉信号进行数据处理，获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。
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公开(公告)号：CN118709744A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410918667.3
申请日：2024-07-10
IPC: G06N3/084 , G01B11/24 , G06N3/0455 , G06N3/0464
Abstract: 本发明公开了一种基于深度学习语义分割网络的相位解包裹方法，包括以下步骤：使用仿真软件生成包括包裹相位和对应的展开相位的数据集，并按比例随机划分成训练集、验证集和测试集；对训练集中的包裹相位数据进行预处理得到处理后的训练集；基于U‑Net网络搭建包含卷积层、池化层的U型网络，并加入多信息融合模块形成复合神经网络模型PMDU；将待解包裹的包裹相位图输入到PMDU网络模型中进行模型训练后确定PMDU模型的参数；将测试集中的包裹相位数据作为PMDU模型的输入进行相位解包裹，将得到对应实际展开相位数据与仿真软件生成的对应展开相位数据对比确定PMDU模型的准确性。本发明求解速度快，精度高，噪声鲁棒性强。
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公开(公告)号：CN116560028A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310592376.5
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种背对式两光栅相互平行的调节方法及调节装置，包括调节两光栅栅面平行和调节两光栅栅线平行，采用的调节装置包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构，通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节，通过红光光源发射光线，由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样，并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线，调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行，完成两光栅的栅线平行调节。
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公开(公告)号：CN116558447A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310592305.5
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本发明结构简单，原理易懂，便于操作实现。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115112028A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210957257.0
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN220153527U
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202321274140.9
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本实用新型结构简单，原理易懂，便于操作实现。
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公开(公告)号：CN217716312U
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202222097838.X
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN220556313U
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202322300207.8
申请日：2023-08-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置，包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统，所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动，所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器，所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统，由信号处理系统对干涉信号进行数据处理，获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。
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公开(公告)号：CN219936177U
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202321273857.1
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本实用新型为一种背对式两光栅相互平行的调节装置，用于实现两光栅栅面平行和两光栅栅线平行的调节，包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构，通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节，通过红光光源发射光线，由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样，并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线，调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行，完成两光栅的栅线平行调节。
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