用于制备多层光学渐变结构的控制组件及方法

    公开(公告)号:CN119506797A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202510091733.9

    申请日:2025-01-21

    Applicant: 上海大学

    Inventor: 刘海

    Abstract: 一种用于制备多层光学渐变结构的控制组件及方法,方法包括:提供基板,所述基板包括一个或多个光栅结构区域;提供至少两种靶源材料,设置于所述基板上方;提供控制组件,并将所述控制组件置于所述靶源材料和所述基板之间且贴合于所述基板的表面放置;通过调整所述靶源材料相对于第一通孔和第二通孔的位置在所述光栅结构区域的任一区域上形成至少两层材料层,且每层材料层的厚度沿目标方向逐渐减小,所述目标方向为形成所述材料层所采用的第一通孔指向形成所述材料层所采用的第二通孔的方向。以实现多层光学渐变结构的厚度连续变化得到精确控制。

    一种双参数传感器阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN119245850A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411265495.0

    申请日:2024-09-10

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明提供了一种双参数传感器阵列及其制备方法,其中双参数传感器阵列包括衬底、分压电阻阵列、肖特基二极管阵列和压敏薄膜,分压电阻阵列包括若干呈阵列排布的分压电阻;肖特基二极管阵列包括若干分别位于分压电阻上的肖特基二极管,肖特基二极管包括阴电极、阳电极以及位于阴电极与阳电极之间的半导体结构,阴电极与对应的分压电阻的第一端电连接,阳电极的第一端通过半导体结构与阴电极电连接,阳电极的第二端与对应的分压电阻的第二端电连接;在压力测试时,压敏薄膜覆盖在肖特基二极管阵列上。本发明解决了在双参数传感器阵列中存在压敏传感器的灵敏度与空间分辨率无法兼顾,且温度传感器对压力信号容易耦合的问题。

    一种人脸识别测温消毒安检一体通道

    公开(公告)号:CN112907806A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110073152.4

    申请日:2021-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种人脸识别测温消毒安检一体通道,属于安检设备技术领域,包括安检门体、人脸识别装置和消毒机构,安检门体顶部设置有红外线测温感应器和控制箱,安检门体的内壁周侧设置有喷射孔,人脸识别装置包括人脸识别仪和用于支撑人脸识别仪的支架,控制箱电性连接红外线测温感应器和人脸识别仪,消毒机构包括消毒仓、消毒液箱和雾化器,消毒液箱和雾化器位于消毒仓内,消毒液箱连接雾化器,消毒仓固定连接在安检门体外侧壁上,喷雾传递管与雾化器相连通,喷雾传递管内壁上设置有通孔。本发明通过设计人脸识别、测温和消毒一体化通道结构,能够同时对进出人员进行信息收集、人体温度的检测和消毒,降低公共区域交叉感染的风险。

    柔性阵列压电传感器及其制作方法

    公开(公告)号:CN118817126A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410806894.7

    申请日:2024-06-21

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 一种柔性阵列压电传感器,柔性衬底层包括阵列区和与阵列区相邻的引出区,阵列区包含若干传感区和互连区,互连区为曲线且相邻互连区之间具有间隙;下电极的第一电极部和传感区的图形重叠,第一互连线与引出区的部分图形重叠;柔性压电层的压电阵列区与传感区的图形重叠,压电引出区与引出区的部分图形重叠;上电极的第二电极部与传感区的图形重叠,第二互连线与引出区的图形部分重叠;绝缘屏蔽层与传感区的图形重叠;封装层与柔性衬底层的图形重叠。从而,本发明通过保证传感器的阵列区对应的各层均为镂空的,且互连区均为曲线,使得传感器具有可曲面共形的特性,兼顾保证了传感器的透气性。

    沉积辅助结构、光学结构的形成方法及衍射光波导

    公开(公告)号:CN119506795A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202510089001.6

    申请日:2025-01-21

    Applicant: 上海大学

    Inventor: 刘海

    Abstract: 一种沉积辅助结构、光学结构的形成方法及衍射光波导,方法包括:提供基板,所述基板包括一个或多个光学结构区域;提供沉积辅助结构,所述沉积辅助结构垂直于基板表面方向设置;提供靶材,设置于所述基板上方;将所述沉积辅助结构设置于所述靶材与所述基板之间,所述第二辅助板与所述基板接触,所述第二窗口与所述光学结构区域相对应,所述第一窗口与所述靶材相对应;通过调整靶材、第一窗口和第二窗口的相对位置在所述光学结构区域上形成厚度依次增加或减少的光学结构材料层。以实现光学结构的厚度连续变化得到精确控制。

    掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导

    公开(公告)号:CN119433436A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202510038250.2

    申请日:2025-01-10

    Applicant: 上海大学

    Inventor: 刘海

    Abstract: 一种掩膜板结构、光学结构及其形成方法,方法包括:提供基板,所述基板包括一个或多个光学结构区域;提供掩膜板结构,所述掩膜板结构包括:沿垂直于基板表面方向设置的第一掩膜板和第二掩膜板;提供靶材,设置于所述基板上方;将所述掩膜板结构设置于所述靶材与所述基板之间,所述第二掩膜板与所述基板接触,所述第二通孔与所述光学结构区域相对应,所述第一通孔与所述靶材相对应;通过轰击靶材在所述光学结构区域上形成厚度连续渐变的材料层,以实现光学结构的厚度连续变化得到精确控制。

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