公开(公告)号：CN108663899A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201710212027.0

申请日：2017-04-01

申请人： 上海凸版光掩模有限公司

发明人： 李勇 ,  倪惠彬

IPC分类号： G03F1/78 ,  G03F7/16 ,  G03F7/38 ,  G03F7/30

摘要： 本发明提供一种基于化学增强光刻胶及电子束曝光的掩模版的制造方法，包括步骤：步骤1），于掩模版上形成正型化学增强光刻胶，对所述光刻胶进行曝光；步骤2），对曝光后的光刻胶进行前烘及冷却；步骤3），对所述光刻胶进行显影形成图形光刻胶，并对所述掩模版进行湿法腐蚀以形成图形掩模版；步骤4），去除所述图形光刻胶；以及步骤5），对所述图形掩模版进行关键尺寸测量。本发明取消了传统后烘和打胶两个步骤，将传统工艺中独立的两个程序显影和腐蚀合并成了连续的步骤，并考虑到取消了后烘和打胶两个步骤，将显影时间下降一部分以补偿关键尺寸的变化趋势，使得最终的线宽保持在一个良好的范围，大大简化了整个工艺流程，并大大提高了产品良率。

公开(公告)号：CN206757295U

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201720131760.5

申请日：2017-02-14

申请人： 上海凸版光掩模有限公司

发明人： 李勇 ,  成立炯 ,  胡平

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本实用新型提供一种光掩模装片匣的支架，所述支架包括：第一板材及第二板材，所述第一板材及第二板材呈60~120°夹角设置，所述第一板材与水平面的夹角为15~45°，所述第二板材与水平面的夹角为45~75°。本实用新型通过设计一个可以使光掩模装片匣倾斜放置的支架，通过倾斜的方式插入光掩模时，不容易造成光掩模胶面的划伤，并且可以避免手上或者衣袖上的灰尘落入光掩模表面的问题，大大提高了光掩模的质量。本实用新型的支架的采用特氟隆材料制成，可以达到不易变形不易产生碎屑及抗氧化的要求。

公开(公告)号：CN204270008U

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201420761811.9

申请日：2014-12-05

申请人： 上海凸版光掩模有限公司

发明人： 李勇 ,  郑宏

IPC分类号： G03F1/82

摘要： 本实用新型提供一种光掩膜烘烤板架，所述光掩膜烘烤板架包括：底座；旋转装置，所述旋转装置将所述底座固定于烘烤设备底部，并通过所述旋转装置实现所述底座的旋转；支架，至少包括一与所述底座固定连接的倾斜面板；以及 加热板，固定于所述支架的倾斜面板上。本实用新型由于采用了预热钢板，保证了掩模版刚放置时的初期温度，同时保证了在加热过程中整片掩模版的均匀受热。另外，本实用新型设计了转动托架，保证了光掩膜装卸的便利性。