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公开(公告)号：CN103972324B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201310039892.1
申请日：2013-02-01
Applicant: 上海交通大学
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种基于纳米压印的硅薄膜太阳电池表面陷光结构制备方法。首先制备压印玻璃模板，将压印玻璃模板浸泡在含氟硅氧烷基的甲苯溶液中修饰，清洗氮气吹干备用。同时对硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃进行清洗，并用氮气吹干悬挂且仅使硅基薄膜电池的表面玻璃的表面部分浸泡在含烯酸酯硅氧烷基修饰液中修饰，之后清洗氮气吹干，再在硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃旋涂一层透明压印胶，通过压印技术将图形转移到硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃上的压印胶体上。本发明既降低反射又能陷光且不改变硅基薄膜太阳能电池制备工艺，可以有效避免薄膜电池缺陷的产生，且不需要复杂设备，高温高压等条件，有利于提高太阳能电池光电转换效率。
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公开(公告)号：CN102303840B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110172544.2
申请日：2011-06-24
Applicant: 上海交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 一种纳米制造技术领域的矢量式AFM纳米加工系统的纳米压印模版的制备方法，通过对所需要的纳米结构进行矢量化编程得到加工宏文件以控制针尖的运动，并AFM进入成像模式扫描状态，然后开始扫描样品表面，待扫描过程稳定并得到稳定的重复性好的扫描图像后，进入脚本程序模式，通过调用第三步中得到的加工宏文件并导入加工系统中开始加工；待加工完成后，进入实时成像模式，再次扫描来获得加工结构的表面形貌结构图；最后利用所制备的纳米图形结构作为掩膜，结合高选择性各向异性湿法刻蚀技术，将AFM电场诱导阳极氧化制备出的纳米结构图形转移到基底上，进而制造出纳米结构模版。
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公开(公告)号：CN103972324A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310039892.1
申请日：2013-02-01
Applicant: 上海交通大学
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/0236 , G03F7/0002
Abstract: 本发明公开了一种基于纳米压印的硅薄膜太阳电池表面陷光结构制备方法。首先制备压印玻璃模板，将压印玻璃模板浸泡在含氟硅氧烷基的甲苯溶液中修饰，清洗氮气吹干备用。同时对硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃进行清洗，并用氮气吹干悬挂且仅使硅基薄膜电池的表面玻璃的表面部分浸泡在含烯酸酯硅氧烷基修饰液中修饰，之后清洗氮气吹干，再在硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃旋涂一层透明压印胶，通过压印技术将图形转移到硅基薄膜太阳能电池的表面玻璃上的压印胶体上。本发明既降低反射又能陷光且不改变硅基薄膜太阳能电池制备工艺，可以有效避免薄膜电池缺陷的产生，且不需要复杂设备，高温高压等条件，有利于提高太阳能电池光电转换效率。
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公开(公告)号：CN101846880B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201010171072.4
申请日：2010-05-12
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种半导体技术领域的激发表面等离子体的纳米光刻方法，首先利用电子束刻蚀方法将三角形Kretschmann棱镜结构制备成三角形光栅结构的石英模板，然后在石英模板的结构上沉积一层金属膜作为掩模板，最后在基片上甩涂一层光刻胶，并采用平行紫外光透过掩模板，在近场条件下对涂有光刻胶的基片曝光及显影。本发明利用金属膜在特定波长的光激发下可以产生表面等离子体波这一特性，将其作为曝光掩模板，采用光刻技术，得到光栅线宽为几十纳米的光刻结构，大大提高了光刻技术的分辨率。
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公开(公告)号：CN101957559A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN201010266692.6
申请日：2010-08-30
Applicant: 上海交通大学 , 日立化成工业株式会社
IPC: G03F7/027 , C07D311/18 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种半导体制造技术领域的光可逆的纳米压印光刻胶及其制备和应用方法，其光刻胶的组分及质量百分比含量为：光可逆交联剂5～50％、光聚合性化合物5～80％以及为光聚合引发剂或光产酸剂0.1％～15％，其中光可逆交联剂的结构式为：本发明制备得到光刻胶的黏度低，便于旋涂涂覆与压印工艺操作，光可逆且抗刻蚀好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100390526C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN03116028.X
申请日：2003-03-27
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种扫描隧道显微镜针尖自动控制刻蚀仪属于测试技术领域。本发明由电路和电解池装置两个部分组成，电路包括电源输出部分电路、制动部分电路、逻辑判断及鸣警部分电路和电解池变化反馈部分电路，电解池装置由完全相同的左右两部分组成，其中两通管一边各焊接一悬臂，另一边通过螺母各固定于中心轴上，两中心轴设置在两底座上，两悬臂的末端通过螺母分别固定有阴极线圈或阳极钨丝，电解池设置在两底座中间，用与电路正负极相连的鳄鱼夹分别夹住阳极钨丝和阴极线圈上部，作为电解池的阴阳两电极。本发明的电路自动切断的响应时间约为100ns，能提高了针尖的锐度，装置结构小巧，拆装更为简便，移动方便提高工作了效率，自动报警无需监视，节省了人力。
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公开(公告)号：CN1292306C
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200410089275.3
申请日：2004-12-09
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种真空负压纳米压印装置。用于纳米加工技术技术领域。本发明主体是一个真空负压工作室，真空负压工作室底部密封，顶部有圆形石英片窗口，而圆形石英片窗口与真空负压工作室通过两个小法兰、一个大法兰、环形橡胶柔性绞链圆片、环形橡胶柔性衬垫圆片密封连接。圆形石英片和环形橡胶柔性绞链圆片密封连接，夹紧在二个小法兰、环形橡胶柔性衬垫圆片和环形橡胶柔性绞链圆片之间，工作室上盖和工作室底座通过密封圈密封连接；真空计和抽气管分别与抽气均衡环通过密封管道密封连接；真空闸门密封连接在抽气管上；减压闸门通过密封管道与真空负压工作室密封连接。本发明极大降低了设备的成本。在亚微米结构的制造具有广泛的应用。
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公开(公告)号：CN1287177A
公开(公告)日：2001-03-14
申请号：CN00116541.0
申请日：2000-06-15
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明主要包括制备DNA片段、检测与蛋白质结合的DNA片段和鉴定基因变异的方法。检测蛋白质结合DNA片段的方法:基因组DNA用内切酶酶切或用引物进行的PCR扩增制备出片段,用基团修饰这些DNA片段的末端,使与相应的固相载体表面进行共价交联,用微阵列点样设备将各种DNA片段点样子固相载体表面并共价交联之,制备成DNA芯片,用这种DNA芯片筛选蛋白质结合的DNA片段的方法。
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公开(公告)号：CN1023361C
公开(公告)日：1993-12-29
申请号：CN92108310.6
申请日：1992-01-21
Applicant: 上海交通大学
IPC: H01L31/0304 , H01L31/108 , H01L27/14
Abstract: 铟镓砷光电探测器，属于微电子学光电子技术领域。本发明是由衬底、缓冲层、吸收层、Jnp增强层、金属电极组成。具有结构新颖、无需掺Fe、工艺简单、稳定可靠、成品率高，势垒增强效果好，长波长(1.3～1.55微米)响应，高速，低暗电流，特别是便于与场效应管(FEI)同片集成的优点，是一种广泛应用于光纤通讯领域中的较为理想的光电探测器。
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公开(公告)号：CN103943716B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201310017974.6
申请日：2013-01-17
Applicant: 上海交通大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种微纳结构太阳能电池及其背面陷光结构的制备方法，该方法先提供一玻璃基底；然后利用刻蚀工艺刻蚀所述玻璃基底，使得玻璃基底表面为柱状阵列结构；最后采用离子束刻蚀技术，旋转一预定角度，获到表面为无棱角周期性微纳结构的玻璃基底，该无棱角周期性微纳结构即为陷光结构。该发明提供的陷光结构位于太阳能电池的背面，通过该结构的反射、折射和散射，增加了光在太阳能电池中的光程，此外，利用反应离子刻蚀技术和离子束刻蚀技术获得表面无棱角周期性的微纳陷光结构后，可以避免后续沉积电极和硅基薄膜时出现沉积不均匀、导电层断路等问题。
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