公开(公告)号：CN115421229A

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN202211147350.1

申请日：2022-09-19

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 丁桂甫 ,  张清泽 ,  孙云娜 ,  石现 ,  张炎鑫

IPC: G02B3/00 ,  H01S5/02253 ,  H01S5/183

Abstract: 本发明涉及一种SU‑8微透镜阵列的光刻‑抛光直接成型制造方法，包括：在基片上布置光刻胶SU‑8，然后通过光刻工艺，使其成型为SU‑8微柱阵列；以及利用化学机械抛光技术，对SU‑8微柱阵列抛光，使其成型为SU‑8微透镜阵列。该方法适用于将微透镜阵列直接原位集成制造在已成型的器件上，无需额外的对准、转移、键合步骤，制备出的SU‑8微透镜阵列具有形貌良好、尺寸可控、化学稳定性和热稳定性好等优点。

公开(公告)号：CN115421229B

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202211147350.1

申请日：2022-09-19

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 丁桂甫 ,  张清泽 ,  孙云娜 ,  石现 ,  张炎鑫

IPC: G02B3/00 ,  H01S5/02253 ,  H01S5/183

Abstract: 本发明涉及一种SU‑8微透镜阵列的光刻‑抛光直接成型制造方法，包括：在基片上布置光刻胶SU‑8，然后通过光刻工艺，使其成型为SU‑8微柱阵列；以及利用化学机械抛光技术，对SU‑8微柱阵列抛光，使其成型为SU‑8微透镜阵列。该方法适用于将微透镜阵列直接原位集成制造在已成型的器件上，无需额外的对准、转移、键合步骤，制备出的SU‑8微透镜阵列具有形貌良好、尺寸可控、化学稳定性和热稳定性好等优点。