公开(公告)号：CN101689582B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200880020468.X

申请日：2008-09-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 秋山政记 ,  井上正志

IPC: H01L31/20 ,  B65G49/06 ,  B65D85/86

CPC classification number: B65G49/062 ,  B65G49/063 ,  B65G49/064 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/67727 ,  H01L31/1876 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明提供可削减工场设置空间的薄膜太阳电池制造系统。薄膜太阳电池制造系统具备：第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多个处理装置(1～16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)倾斜地保管基板。多个处理装置(1～16-2)在薄膜太阳电池的制造工序中使用于基板处理，并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之间的区域，使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1)，另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多个处理装置(1～16-2)所共用。

公开(公告)号：CN101689582A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880020468.X

申请日：2008-09-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 秋山政记 ,  井上正志

IPC: H01L31/20 ,  B65G49/06 ,  B65D85/86

CPC classification number: B65G49/062 ,  B65G49/063 ,  B65G49/064 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/67727 ,  H01L31/1876 ,  H01L31/206 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明提供可削减工场设置空间的薄膜太阳电池制造系统。薄膜太阳电池制造系统具备：第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多个处理装置(1～16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)倾斜地保管基板。多个处理装置(1～16-2)在薄膜太阳电池的制造工序中使用于基板处理，并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之间的区域，使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1)，另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多个处理装置(1～16-2)所共用。