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公开(公告)号：CN103180980A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201180051844.3
申请日：2011-11-10
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: H01L33/60
CPC classification number: H01L33/60 , H01L33/62 , H01L2924/0002 , H01L2933/0058 , H01L2933/0091 , Y10T428/31504 , H01L2224/48091 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的发光元件依次具备发光层、反射由发光层发出的光的导电性反射膜及基材，其中，导电性反射膜包含金属纳米粒子。
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公开(公告)号：CN103180980B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201180051844.3
申请日：2011-11-10
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: H01L33/60
CPC classification number: H01L33/60 , H01L33/62 , H01L2924/0002 , H01L2933/0058 , H01L2933/0091 , Y10T428/31504 , H01L2224/48091 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的发光元件依次具备发光层、反射由发光层发出的光的导电性反射膜及基材，其中，导电性反射膜包含金属纳米粒子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102642094B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201210026270.0
申请日：2012-02-07
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L24/83 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27848 , H01L2224/29006 , H01L2224/32013 , H01L2224/32225 , H01L2224/83192 , H01L2224/8384 , H01L2924/01322 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种接合用浆料及半导体元件与基板的接合方法。该接合用浆料含有(A)平均粒径为100nm以下的金属纳米粒子、(B)沸点为50～100℃的溶剂和(C)沸点为150～200℃的溶剂，相对于所述(B)组分和所述(C)组分的总计100质量份，所述(B)组分的含量为10～30质量份。该半导体元件与基板的接合方法具有：在基板上涂布所述接合用浆料，使所述接合用浆料干燥的工序；和在所述干燥后的接合用浆料上设置半导体元件，进行加热的工序。
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公开(公告)号：CN103787588A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201310418297.9
申请日：2013-09-13
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C03C17/34
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种由抗反射膜及扩散抑制膜构成的复合膜、以及具备该复合膜的玻璃基材的制造方法，该复合膜能够将含有Na、Ca的钠钙玻璃等通用玻璃用作高耐久性的抗反射性玻璃基材。所述复合膜的特征在于，由扩散抑制膜和抗反射膜构成，其中，在使用透射电子显微镜附属的能量分散型X射线光谱分析装置进行的定量分析中，相对于Si、P及O的总计100原子%，该扩散抑制膜含有1.0～12.0原子%的P，该抗反射膜含有0.1～0.7原子%的P，在含有选自Na及Ca中的至少一种的玻璃基材表面依次形成有扩散抑制膜、抗反射膜。
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公开(公告)号：CN103130420B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201210359416.3
申请日：2012-09-24
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C03C17/34 , H01L31/048
CPC classification number: Y02E10/549
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带抗反射膜的玻璃基材，将含有Na、Ca的钠钙玻璃等通用玻璃用作高耐久性带抗反射膜的玻璃基材。即，本发明的目的在于提供一种通过提供抗反射功能来增加入射光的透射量，并且抑制在高温高湿下玻璃基材中的Na或Ca向抗反射膜表面扩散，从而抑制抗反射膜的白浊的带抗反射膜的玻璃基材。本发明的带抗反射膜的玻璃基材（1），为在表面具备抗反射膜（3）的玻璃基材（2），其特征在于，玻璃基材（2）含有至少1种选自Na及Ca中的碱金属；抗反射膜（3）含有SiO2且折射率为1.35～1.50；并且在玻璃基材（2）表面与抗反射膜（3）的界面具备含有1～12原子％的P的扩散抑制膜（4）。
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公开(公告)号：CN103130420A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210359416.3
申请日：2012-09-24
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C03C17/34 , H01L31/048
CPC classification number: Y02E10/549
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带抗反射膜的玻璃基材，将含有Na、Ca的钠钙玻璃等通用玻璃用作高耐久性带抗反射膜的玻璃基材。即，本发明的目的在于提供一种通过提供抗反射功能来增加入射光的透射量，并且抑制在高温高湿下玻璃基材中的Na或Ca向抗反射膜表面扩散，从而抑制抗反射膜的白浊的带抗反射膜的玻璃基材。本发明的带抗反射膜的玻璃基材（1），为在表面具备抗反射膜（3）的玻璃基材（2），其特征在于，玻璃基材（2）含有至少1种选自Na及Ca中的碱金属；抗反射膜（3）含有SiO2且折射率为1.35～1.50；并且在玻璃基材（2）表面与抗反射膜（3）的界面具备含有1～12原子％的P的扩散抑制膜（4）。
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公开(公告)号：CN102642094A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210026270.0
申请日：2012-02-07
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L24/83 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27848 , H01L2224/29006 , H01L2224/32013 , H01L2224/32225 , H01L2224/83192 , H01L2224/8384 , H01L2924/01322 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种接合用浆料及半导体元件与基板的接合方法。该接合用浆料含有(A)平均粒径为100nm以下的金属纳米粒子、(B)沸点为50～100℃的溶剂和(C)沸点为150～200℃的溶剂，相对于所述(B)组分和所述(C)组分的总计100质量份，所述(B)组分的含量为10～30质量份。该半导体元件与基板的接合方法具有：在基板上涂布所述接合用浆料，使所述接合用浆料干燥的工序；和在所述干燥后的接合用浆料上设置半导体元件，进行加热的工序。
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