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公开(公告)号:CN102642094B
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:CN201210026270.0
申请日:2012-02-07
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L24/83 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27848 , H01L2224/29006 , H01L2224/32013 , H01L2224/32225 , H01L2224/83192 , H01L2224/8384 , H01L2924/01322 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种接合用浆料及半导体元件与基板的接合方法。该接合用浆料含有(A)平均粒径为100nm以下的金属纳米粒子、(B)沸点为50~100℃的溶剂和(C)沸点为150~200℃的溶剂,相对于所述(B)组分和所述(C)组分的总计100质量份,所述(B)组分的含量为10~30质量份。该半导体元件与基板的接合方法具有:在基板上涂布所述接合用浆料,使所述接合用浆料干燥的工序;和在所述干燥后的接合用浆料上设置半导体元件,进行加热的工序。
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公开(公告)号:CN102642094A
公开(公告)日:2012-08-22
申请号:CN201210026270.0
申请日:2012-02-07
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L24/83 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27848 , H01L2224/29006 , H01L2224/32013 , H01L2224/32225 , H01L2224/83192 , H01L2224/8384 , H01L2924/01322 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种接合用浆料及半导体元件与基板的接合方法。该接合用浆料含有(A)平均粒径为100nm以下的金属纳米粒子、(B)沸点为50~100℃的溶剂和(C)沸点为150~200℃的溶剂,相对于所述(B)组分和所述(C)组分的总计100质量份,所述(B)组分的含量为10~30质量份。该半导体元件与基板的接合方法具有:在基板上涂布所述接合用浆料,使所述接合用浆料干燥的工序;和在所述干燥后的接合用浆料上设置半导体元件,进行加热的工序。
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