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公开(公告)号:CN1938128A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200580009991.9
申请日:2005-03-29
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: B24B53/12 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种在基材上表面突出的突部上粘合有磨粒的CMP调节器,其能够稳定地粘合磨粒而防止因磨粒的脱落而产生划痕等,而且能够在修整时可靠地确保在磨粒周围的突部的突出端面和垫之间保持磨削液的空间。本发明的CMP调节器是在围绕轴线旋转的基材(1)的上表面(2)上,形成从该上表面(2)突出的突部(3)、(4),在该突部(3)、(4)上粘合多个磨粒(5)而构成,并且,磨粒(5)在朝向突部(3)、(4)的突出方向的突出端面(3A)、(4A)上,以不超出从该突出端面(3A)、(4A)的周缘(3C)、(4C)沿轴线方向延伸的假想延长面(P)的方式粘合。
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公开(公告)号:CN101547770A
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200780035521.9
申请日:2007-09-21
Applicant: 三菱综合材料株式会社 , TOTO株式会社
IPC: B24B53/12 , B24B37/00 , B24D3/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B53/017 , B24B53/12 , B24D3/08 , B24D18/00
Abstract: 本发明提供在磨粒周边部分具有优异耐腐蚀性的CMP修整器。对于在一面形成了磨粒固定于金属结合相中而成的磨粒层的磨石基体,在磨粒层的金属结合相表面利用溶胶凝胶法形成包含氧化物的第一保护层,接着向第一保护层的表面喷射在气体中分散脆性材料的微粒而成的气溶胶并使其碰撞来形成包含氧化物厚膜的第二保护层。
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