硅微粒及其制造方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114829302B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202080084847.6

    申请日:2020-12-02

    Abstract: 本发明提供一种硅微粒等,其包含通过显微镜法测定的粒径为1μm以上且通过下述式(1)求出的圆度的平均值为0.93以上的粒子,通过激光衍射散射法测定的体积基准的平均粒径在0.8μm以上且8.0μm以下的范围内,通过激光衍射散射法测定的个数基准的平均粒径在0.100μm以上且0.150μm以下的范围内,通过BET法测定的比表面积在4.0m2/g以上且10m2/g以下的范围内。式(1):圆度=(4×π×粒子的投影面积)1/2/粒子的周长。

    硅微粒及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114829302A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202080084847.6

    申请日:2020-12-02

    Abstract: 本发明提供一种硅微粉末等,其包含通过显微镜法测定的粒径为1μm以上且通过下述式(1)求出的圆度的平均值为0.93以上的硅微粒,通过激光衍射散射法测定的体积基准的平均粒径在0.8μm以上且8.0μm以下的范围内,通过激光衍射散射法测定的个数基准的平均粒径在0.100μm以上且0.150μm以下的范围内,通过BET法测定的比表面积在4.0m2/g以上且10m2/g以下的范围内。式(1):圆度=(4×π×粒子的投影面积)1/2/粒子的周长。

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