-
公开(公告)号：CN103339529B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201280002289.X
申请日：2012-01-20
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G01T1/29 , G21K5/00 , G21K5/02
Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。
-
公开(公告)号：CN106061555A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201480076701.1
申请日：2014-04-07
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1031 , A61N5/10 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明包括：副射束近似步骤，所述副射束近似步骤使用分别具有高斯分布的多个副射束的集合对粒子射线进行近似；以及副射束剂量分布运算步骤，所述副射束剂量分布运算步骤通过对利用扫描装置将多个副射束的各自的副射束偏转而前进的状态进行仿真，从而运算各自的副射束在患者内部形成的各自的副射束剂量分布，通过将运算出的各自的副射束剂量分布进行累计，从而求出粒子射线在患者内部形成的剂量分布。
-
公开(公告)号：CN103339529A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201280002289.X
申请日：2012-01-20
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G01T1/29 , G21K5/00 , G21K5/02
Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换器处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换器处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换器处理。
-
公开(公告)号：CN104023791B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201180074600.7
申请日：2011-11-03
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104023791A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201180074600.7
申请日：2011-11-03
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。
-
公开(公告)号：CN103917273A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201180074570.X
申请日：2011-11-02
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N5/1049 , A61N5/1069 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的粒子射线治疗装置包括：控制治疗台(30)的位置的治疗台控制部(61)；以及输出用于对该治疗台控制部、加速器(1)、扫描电磁铁(7)进行控制的指令的照射控制部(60)，治疗台控制部控制治疗台，以使得作为患者的患部基准位置的患者等中心移动到照射等中心(IC2)的位置为止，该照射等中心(IC2)的位置设置在比作为照射嘴(4)与治疗台之间的位置关系的基准的设备等中心(IC1)更靠近照射嘴的位置，之后，照射控制部输出用于对患者照射粒子射线的指令。
-
公开(公告)号：CN108697904A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680080943.7
申请日：2016-02-15
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
Abstract: 在本发明的粒子射线治疗装置中，无需为了决定扫描次数而准备复杂的测定等，就能简单地在短时间内决定扫描次数。照射控制部(80)包括对粒子束强度赋予联锁值的联锁电路(14a)，利用照射控制计算部(70)，基于从给予剂量、剂量校正的测定结果及照射点数导出的规定的剂量的合计点计数值和联锁值，来决定扫描次数，利用由照射控制部(80)赋予了联锁值的粒子束强度，以剂量监视器(42)所测得的规定的点计数值来进行扫描，使得以所决定的扫描次数来进行照射。
-
公开(公告)号：CN104010694B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
-
公开(公告)号：CN104010694A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.016 seconds)
