-
公开(公告)号：CN105916554A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201480072776.2
申请日：2014-01-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1071 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明提供一种粒子射线照射装置，其对扫描装置实施如下控制，即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数，对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线，该粒子射线照射装置具备运算部，该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方，求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值，并提示给用户。J*ti
-
公开(公告)号：CN104010694B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
-
公开(公告)号：CN102740929B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201080062466.4
申请日：2010-01-28
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于获得可降低扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线治疗装置。其包括：照射管理装置（32），该照射管理装置（32）基于带电粒子束（1ｂ）的目标照射位置坐标（Ｐｉ）来控制扫描电磁铁（3）；及位置监视器（7），该位置监视器（7）测定带电粒子束（1ｂ）的测定位置坐标（Ｐｓ），照射管理装置（32）包括指令值生成器（25），该指令值生成器（25）基于校正数据（Ｉａ）和目标照射位置坐标（Ｐｉ）来将控制输入（Ｉｏ（Ｉｒ））输出到扫描电磁铁（3），上述校正数据（Ｉａ）是基于测定位置坐标（Ｐｓ）及目标照射位置坐标（Ｐｉ）而生成的，上述测定位置坐标（Ｐｓ）是扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中，由位置监视器（7）测定的。
-
公开(公告)号：CN104010694A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
-
公开(公告)号：CN102015022B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN200880128977.4
申请日：2008-05-12
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103415321A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201180069037.4
申请日：2011-03-07
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于，能在短时间内对粒子射线治疗装置所使用的扫描电磁铁的残留磁化进行恰当的消磁，在向照射对象照射经加速器加速、并由扫描电磁铁（11）和（12）进行扫描的粒子射线（18）的粒子射线治疗装置中，对扫描电磁铁（11、12）进行励磁的电源（13）和（14）输出用于对扫描电磁铁（11）和（12）进行消磁的图案电流。图案电流由控制电路（15）进行控制，该控制电路（15）读取消磁图案（17）来控制电源（13）和（14）。
-
公开(公告)号：CN102015022A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200880128977.4
申请日：2008-05-12
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。
-
公开(公告)号：CN1284188C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200410035146.6
申请日：2004-04-23
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 原田久
CPC classification number: G21K1/046 , A61N5/1045
Abstract: 一种放射线照射装置，包括：进行多次的放射线波束照射的波束遮断装置；为了在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的多个照射区域中能照射到被照射部位整个面的位置控制装置；以及使各照射区域的重叠区域中的线量分布中具有坡度、在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的被照射部位整个面上使线量分布平坦的多叶式准直仪控制装置。采用本发明，在不用强化照射范围扩大装置性能的情况下具有大的照射范围并可确保线量分布的一样性。
-
公开(公告)号：CN103917274B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201280054629.3
申请日：2012-09-21
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
Abstract: 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。
-
公开(公告)号：CN103339529B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201280002289.X
申请日：2012-01-20
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1071 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G01T1/29 , G21K5/00 , G21K5/02
Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
48
records
(took 0.023 seconds)
