公开(公告)号：CN100590427C

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200710101136.1

申请日：2007-04-29

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 西野裕久 ,  小原隆雄 ,  宇野真彦

IPC: G01N21/958 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9505 ,  G01N21/9503

Abstract: 以往，在半导体晶片的缺陷(裂纹或异物等)的检查中，当用照相机拍摄透过半导体晶片的红外光、并用该摄像图像进行检查时，由于从被检查物的外侧泄漏出来的光的原因，照相机产生光晕，结果不能检查被检查体的周边部分。本发明用红外光源(3)照射被检查体(1)，用红外线照相机(6)拍摄透过了被检查体(1)的光，并进行被检查体的检查。通过采用距被检查体的周围有微小量的间隙(10)的掩模机构(8)，便可以检查被检查物的周边部分。另外，通过采用多组支撑被检查体(1)的机构可以分别退避的构成的部件，并使其交替退避，就可以检查全部。

公开(公告)号：CN101071107A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710101136.1

申请日：2007-04-29

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 西野裕久 ,  小原隆雄 ,  宇野真彦

IPC: G01N21/958 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9505 ,  G01N21/9503

Abstract: 以往，在半导体晶片的缺陷(裂纹或异物等)的检查中，当用照相机拍摄透过半导体晶片的红外光、并用该摄像图像进行检查时，由于从被检查物的外侧泄漏出来的光的原因，照相机产生光晕，结果不能检查被检查体的周边部分。本发明用红外光源(3)照射被检查体(1)，用红外线照相机(6)拍摄透过了被检查体(1)的光，并进行被检查体的检查。通过采用距被检查体的周围有微小量的间隙(10)的掩模机构(8)，便可以检查被检查物的周边部分。另外，通过采用多组支撑被检查体(1)的机构可以分别退避的构成的部件，并使其交替退避，就可以检查全部。