能根据工作方式设定衬底电压幅度的半导体存储装置

    公开(公告)号:CN1113361C

    公开(公告)日:2003-07-02

    申请号:CN96122645.5

    申请日:1996-10-17

    Inventor: 中井润

    CPC classification number: G11C11/407 G11C5/14

    Abstract: DRAM包括产生负的加到第一节点的基片电压的基片电压产生装置。后者包括检测电路。检测电路包括第一、二和三PMOS晶体管。第三PMOS晶体管在自刷新方式接收“L”电平信号而在正常方式接收“H”电平信号。结果,基片电压的箝位电平在自刷新方式下大而在正常方式下小。在自刷新方式下NMOS晶体管具有大于正常方式下的基片电压而导通,因此基片电压增大并且暂停刷新能力得到改善。因此可加大内/RAS的时间间隔和降低自刷新方式下的电力消耗。

    能根据工作方式设定基片电压幅度的半导体存储装置

    公开(公告)号:CN1157460A

    公开(公告)日:1997-08-20

    申请号:CN96122645.5

    申请日:1996-10-17

    Inventor: 中井润

    CPC classification number: G11C11/407 G11C5/14

    Abstract: DRAM包括产生负的加到第一节点的基片电压的基片电压产生装置。后者包括检测电路。检测电路包括第一、二和三PMOS晶体管。第三PMOS晶体管在自刷新方式接收“L”电平信号而在正常方式接收“H”电平信号。结果,基片电压的箝位电平在自刷新方式下大而在正常方式下小。在自刷新方式下NMOS晶体管具有大于正常方式下的基片电压而导通,因此基片电压增大并且暂停刷新能力得到改善。因此可加大内/RAS的时间间隔和降低自刷新方式下的电力消耗。

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