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公开(公告)号：CN101903591A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200880121012.2
申请日：2008-12-05
申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号： D21C9/16
CPC分类号： D21C9/142 , D21C9/1036 , D21C9/147 , D21C9/153 , D21C9/163
摘要： 提供一种漂白纸浆的制造方法，该方法包括：对通过蒸煮木质纤维素物质得到的未漂白纸浆进行氧碱漂白处理，接着进行包括二氧化氯处理的无氯漂白处理，其中，通过在实施该二氧化氯处理的至少一个二氧化氯处理段组合使用单过硫酸，二氧化氯的用量减少，改善了漂白纸浆的褪色性。
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公开(公告)号：CN105672018A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610074564.9
申请日：2008-12-05
申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号： D21C9/14
CPC分类号： D21C9/142 , D21C9/1036 , D21C9/147 , D21C9/153 , D21C9/163
摘要： 提供一种漂白纸浆的制造方法，该方法包括：对通过蒸煮木质纤维素物质得到的未漂白纸浆进行氧碱漂白处理，接着进行包括二氧化氯处理的无氯漂白处理，其中，通过在实施该二氧化氯处理的至少一个二氧化氯处理段组合使用单过硫酸，二氧化氯的用量减少，改善了漂白纸浆的褪色性。
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公开(公告)号：CN101331811B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200680047115.X
申请日：2006-12-14
申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
CPC分类号： H05K3/26 , C11D3/3947 , C11D7/3281 , C11D11/0047 , G03F7/423 , G03F7/425 , H05K3/0041 , H05K3/388 , H05K2203/0796 , H05K2203/124
摘要： 本发明提供了一种含有氧化剂和唑系化合物、且pH为1-7的用于除去配线基板的残渣的组合物，以及使用该组合物除去干刻后的配线基板的残渣的配线基板的洗涤方法。通过使用本发明的用于除去残渣的组合物，在制备配线基板时不会腐蚀腐蚀性高的钛或钛合金，且可以有效除去来自干刻后残留的抗蚀剂或金属的残渣，特别是可以有效制备使用含有钛或钛合金的配线基板的半导体装置。
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公开(公告)号：CN101331811A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680047115.X
申请日：2006-12-14
申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
CPC分类号： H05K3/26 , C11D3/3947 , C11D7/3281 , C11D11/0047 , G03F7/423 , G03F7/425 , H05K3/0041 , H05K3/388 , H05K2203/0796 , H05K2203/124
摘要： 本发明提供了一种含有氧化剂和唑系化合物、且pH为1－7的用于除去配线基板的残渣的组合物，以及使用该组合物除去干刻后的配线基板的残渣的配线基板的洗涤方法。通过使用本发明的用于除去残渣的组合物，在制备配线基板时不会腐蚀腐蚀性高的钛或钛合金，且可以有效除去来自干刻后残留的抗蚀剂或金属的残渣，特别是可以有效制备使用含有钛或钛合金的配线基板的半导体装置。
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