半导体元件搭载用封装基板的制造方法

    公开(公告)号:CN113243146A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN201980081480.X

    申请日:2019-10-21

    IPC分类号: H05K3/46 H01L23/12 H05K3/00

    摘要: 一种半导体元件搭载用封装基板的制造方法,其为具备绝缘层和设置于绝缘层上的布线导体的半导体元件搭载用封装基板的制造方法,所述制造方法包括如下工序:第1基板形成工序(a),在厚度为1μm~80μm的芯树脂层的两面形成配置有第1金属层、第1绝缘性树脂层和第2金属层的层叠体,将层叠体同时加热加压,形成第1基板,所述第1金属层的厚度为1μm~70μm且能从芯树脂层剥离;图案化工序(b),在第1基板的第2金属层上形成图案;第2基板形成工序(c),在前述第1基板的第2金属层表面配置第2绝缘性树脂层和第3金属层,形成层叠体,将所形成的层叠体加热加压,形成第2基板;和,剥离工序(d),从芯树脂层剥离第3基板,所述第3基板具备第1金属层、第1绝缘性树脂层、第2金属层、第2绝缘性树脂层和第3金属层。

    支撑基板、带有支撑基板的层叠体及半导体元件搭载用封装基板的制造方法

    公开(公告)号:CN109564899A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201780048479.8

    申请日:2017-08-04

    IPC分类号: H01L23/12 H05K3/46

    摘要: 一种半导体元件搭载用封装基板的制造方法,其包括如下工序:第1层叠体准备工序,准备第1层叠体,所述第1层叠体具有:树脂层、设置于前述树脂层的至少一面侧并且具备剥离单元的粘接层、和设置于前述粘接层上的第1金属层;第1布线形成工序,对前述第1金属层进行蚀刻,在前述第1层叠体形成第1布线导体;第2层叠体形成工序,在前述第1层叠体的设置有前述第1布线导体的面依次层叠绝缘树脂层和第2金属层,形成第2层叠体;第2布线形成工序,在前述绝缘树脂层形成到达至前述第1布线导体的非贯通孔,对形成有前述非贯通孔的前述绝缘树脂层实施电镀和/或化学镀,在前述绝缘树脂层上形成第2布线导体;和、剥离工序,从形成有前述第2布线导体的前述第2层叠体将至少前述树脂层剥离。