公开(公告)号：CN107922655A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680046478.5

申请日：2016-02-29

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 筑摩和哉 ,  佐佐木伸明 ,  石田干祥 ,  川崎阳一

IPC: C08J7/04 ,  B32B15/08 ,  B32B27/36 ,  H05K1/03

CPC classification number: B32B15/08 ,  B32B27/36 ,  C08J7/04 ,  H05K1/03

Abstract: 本发明提供一种图案化的金属膜叠层用膜，即使在高温高湿条件下对金属层的密合性也良好，并且，金属层不发生变色，且能够抑制在进行热处理时发生析出的低聚物析出，即使在经图案化的金属层的形状的变形、金属膜叠层用膜的图案化变得微细，图案宽度被设计得更窄，设计为配线基板的响应变得高精度化的、高灵敏度的配线基板的类型中使用时，也能够不发生因图案化不良而引起的不良状况。提供一种金属膜叠层用膜，至少在一个聚酯膜面具有涂布层，该涂布层由相对于不挥发成分含有70重量％以上交联剂的涂布液形成，满足下述式(1)。|SMD－STD|≤0.4…(1)(上述式中，SMD表示膜移动方向(MD)的收缩率(％)，STD表示与膜移动方向正交的方向(TD)的收缩率(％)，加热条件为150℃、90分钟)。

公开(公告)号：CN108367559B

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201680055504.0

申请日：2016-05-12

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 加藤雄三 ,  川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: B32B27/36 ,  B32B27/06 ,  B32B33/00 ,  B05D7/04 ,  B05D7/24 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  C08J7/044 ,  C09D125/06 ,  C09D129/04 ,  C09D133/00

Abstract: 本发明提供一种具有优异的防静电性并且防静电性的耐久性优异的涂布膜。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的涂布层，该涂布液含有聚苯乙烯磺酸或其衍生物，还含有粘合剂树脂或交联剂。

公开(公告)号：CN105377968B

公开(公告)日：2019-03-12

申请号：CN201480038883.3

申请日：2014-05-02

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: C08J7/04 ,  B32B27/36

Abstract: 本发明提供一种涂布膜，例如在暴露于高温时，能够有效地抑制从膜的表面析出的低聚物，且相对于各种功能层具有优异的密合性。该涂布膜，在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少单面，具有由含有相对于不挥发成分为70重量％以上的交联剂的涂布液形成的涂布层。

公开(公告)号：CN107922655B

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN201680046478.5

申请日：2016-02-29

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 筑摩和哉 ,  佐佐木伸明 ,  石田干祥 ,  川崎阳一

IPC: C08J7/04 ,  B32B15/08 ,  B32B27/36 ,  H05K1/03

Abstract: 本发明提供一种图案化的金属膜叠层用膜，即使在高温高湿条件下对金属层的密合性也良好，并且，金属层不发生变色，且能够抑制在进行热处理时发生析出的低聚物析出，即使在经图案化的金属层的形状的变形、金属膜叠层用膜的图案化变得微细，图案宽度被设计得更窄，设计为配线基板的响应变得高精度化的、高灵敏度的配线基板的类型中使用时，也能够不发生因图案化不良而引起的不良状况。提供一种金属膜叠层用膜，至少在一个聚酯膜面具有涂布层，该涂布层由相对于不挥发成分含有70重量％以上交联剂的涂布液形成，满足下述式(1)。|SMD－STD|≤0.4…(1)(上述式中，SMD表示膜移动方向(MD)的收缩率(％)，STD表示与膜移动方向正交的方向(TD)的收缩率(％)，加热条件为150℃、90分钟)。

公开(公告)号：CN106573458B

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201580041300.7

申请日：2015-10-08

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 中山慧美 ,  川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: B32B27/36 ,  C08J7/04

Abstract: 本发明提供一种涂布膜，能够抑制暴露于高温时由膜析出的酯环状三聚体，在保管膜时、使用膜时、加工膜时等，不会发生伴随酯环状三聚体的不良情况。在该涂布膜在聚酯膜的至少单面具有涂布层，该涂布层含有具有苯乙烯结构和(甲基)丙烯酸结构的树脂。

公开(公告)号：CN105793039B

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201480065355.7

申请日：2014-11-18

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 井崎公裕 ,  川崎阳一

IPC: B32B27/36

Abstract: 本发明提供一种可以以高度的水平兼备防止加热处理后的低聚物析出和对于功能层、例如硬涂层的密合性的相反的特性的表面保护膜。一种表面保护膜，其在具有至少3层以上的叠层结构并且两最外表面层的聚酯层的软化点高于中间层的软化点的多层聚酯膜的两面形成涂布层，在一个涂布层表面设置粘合层而成，上述涂布层由相对于不挥发成分含有70重量％以上的交联剂的涂布液形成。

公开(公告)号：CN107207752B

公开(公告)日：2020-12-11

申请号：CN201680007421.4

申请日：2016-02-29

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 中山慧美 ,  川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: C08J7/04 ,  B32B27/30 ,  B32B27/36 ,  C08L67/00

Abstract: 本发明提供例如在暴露于高温后也能够高度抑制从膜的表面析出的寡聚物、并且与硬涂层、油墨等的被覆物的粘接性优异的涂布膜。上述涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的、厚度为74nm以下的涂布层，上述涂布液含有具有羟基和(甲基)丙烯酸酯结构的树脂和三聚氰胺化合物。

公开(公告)号：CN105008130B

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：CN201480010861.6

申请日：2014-01-24

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 川崎阳一 ,  神田俊宏 ,  川崎泰史

IPC: B32B27/36

CPC classification number: C08J7/065 ,  B32B27/08 ,  B32B27/36 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2307/202 ,  B32B2307/412 ,  B32B2457/208 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2429/04 ,  C08J2433/14 ,  C08J2461/00 ,  C09D1/00

Abstract: 本发明提供一种具有优异特性的涂布膜，例如，暴露于高温时，能够有效地抑制从膜的表面析出低聚物，在保管膜时、使用膜时、加工膜时等，不会发生因低聚物(酯环状三聚体)产生的不良情况。该涂布膜在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。

公开(公告)号：CN107207752A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680007421.4

申请日：2016-02-29

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 中山慧美 ,  川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: C08J7/04 ,  B32B27/30 ,  B32B27/36

Abstract: 本发明提供例如在暴露于高温后也能够高度抑制从膜的表面析出的寡聚物、并且与硬涂层、油墨等的被覆物的粘接性优异的涂布膜。上述涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的、厚度为74nm以下的涂布层，上述涂布液含有具有羟基和(甲基)丙烯酸酯结构的树脂和三聚氰胺化合物。

公开(公告)号：CN108367559A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680055504.0

申请日：2016-05-12

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 加藤雄三 ,  川崎阳一 ,  川崎泰史

IPC: B32B27/36 ,  B05D7/04 ,  B05D7/24 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  C08J7/04 ,  C09D125/06 ,  C09D129/04 ,  C09D133/00

Abstract: 本发明提供一种具有优异的防静电性并且防静电性的耐久性优异的涂布膜。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的涂布层，该涂布液含有聚苯乙烯磺酸或其衍生物，还含有粘合剂树脂或交联剂。